Gebraucht LEYBOLD APS 1104 #9377873 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9377873
Vacuum deposition system
Chamber
Water manifold
Compressed air network
Control cabinets
Internal meissner trap
Planetary rotation drive
IR Heaters
Manuals
D65 Mechanical pump
WS501 Roots pump
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER DIF501 Diffusion pump
Vacuum valves
POLYCOLD 1104-HC Pump with refrigerator
Combivac CM31 Vacuum gauge with gauge head
ITR100 Vacuum gauge with gauge head
THERMOVAC Gauge
Gas inlet system:
(3) Mass Flow Controllers (MFC) with valves
Tubing
Feedthroughs
APS Plasma source with power supplies
Deposition sources:
2- ESQ 212 E-Guns with rotation motor
Shutter assembly
HV10.3 E-Gun power supply
With programmable deflection controller
Remote control for E-gun sources
OMS 3000/R Thickness monitor
(3) Crystal sensors
(2) Dual sensors
With (2) QSM boards
LEYCOM IV
Automatic process and controller.
LEYBOLD APS 1104 Photoresist Equipment ist ein hocheffizientes, kostengünstiges und zuverlässiges Werkzeug für die Photoresist-Verarbeitung. Bei der Verarbeitung von Photoresist wird ein lichtempfindlicher Film auf ein Substrat aufgebracht und der Film dann mit Licht belichtet, das einen Photoresist erzeugt. Dieser Photoresist dient nach Einätzen von Mustern als Schicht, um die Diffusion von Verunreinigungen in das Substrat zu blockieren. APS 1104 Photoresist System nutzt ein geschlossenes Design mit mehreren austauschbaren Nassverarbeitungsmodulen, die jeweils auf bestimmte Photoresist-Prozesse zugeschnitten sind. Auf diese Weise können Benutzer komplexe Muster und Fotolackschichten erstellen und replizieren, einschließlich hochauflösender und wiederholbarer Muster. Darüber hinaus ist das Gerät auf Flexibilität ausgelegt, mit austauschbaren Modulen und einem breiten Spektrum an Konfigurationen, um verschiedene Anwendungsanforderungen zu erfüllen. LEYBOLD APS 1104 Photoresist Machine ist hocheffizient und kostengünstig und bietet eine hervorragende Bildqualität bei Verwendung in einer Vielzahl von Anwendungsbereichen wie Druck- und Offsetlithographie, Leiterplatten, Mikromaschinen und Oberflächenmontagetechnologie. Das Tool bietet ein Mehrzonendesign, eine Pumpstation und eine Prozessüberwachungseinrichtung, die den Zeitaufwand in einem bestimmten Photolithographieschritt reduzieren soll. Dieses Modell kann auch konfiguriert werden, um komplexe Array-Muster in einem einzigen Lauf zu erzeugen, die Effizienz zu erhöhen und potenzielle Fehler zu beseitigen, die mit mehrstufigen lithographischen Prozessen verbunden sind. Darüber hinaus ist APS 1104 Photoresist Equipment in der Lage, die Dicke und Strukturierung einer Beschichtung auf dem gewünschten Substrat zu steuern. LEYBOLD APS 1104 Photoresist System bietet auch außergewöhnliche Sicherheitsmaßnahmen. Die integrierten Sicherheitsfunktionen des Geräts dienen dem Schutz des Personals vor gefährlichen Chemikalien und Photoresistabfällen. Sie schützt auch die Umwelt vor Kontaminationen oder erheblichen Emissionen. APS 1104 Photoresist Machine ist zertifiziert seine Umweltverträglichkeit, so dass es eine Top-Wahl für viele industrielle Anwendungen. Kurz gesagt, LEYBOLD APS 1104 Photoresist Tool ist eines der effizientesten und zuverlässigsten Photoresist-Verarbeitungssysteme auf dem Markt. Mit seinem Leistungsspektrum und seiner Funktionalität ist es eine gute Wahl für jede photolithographische Verarbeitungsanforderung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor