Gebraucht LEYBOLD CCS 250 #9236185 zu verkaufen

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ID: 9236185
Weinlese: 2000
Coater Controller racks: Electron gun Turbo pump Ion source: Mark 1 INIFICON XTC Thin film decoration POLYCOLD PFC 552 HC Cryogenic refrigeration unit REGLOPLAS 90 Smart temperature control unit KELVI PLAST WKL 8-HS Chiller Cooler eco refrigerazione FCE Computer Includes: Water-cooling system FERROTEC POLYCOLD Cryo generator Does not include computer monitor Line voltage: 3x400 V, 3 Phase, 4 wires Frequency: 50 Hz ± 2% / 60 Hz ± 2% 2000 vintage.
LEYBOLD CCS 250 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung zur Erzeugung von geschützten codierten Bildern und Mustern auf der Oberfläche von Silizium-Wafern. CCS 250 bietet volle Abdeckung bis zu einer maximalen Substratgröße von 250 mm und ermöglicht die Herstellung großer, gleichmäßiger Muster über mehrere Wafer. Das System ist mit drei Prozessmodulen ausgestattet, dem Entwickler, dem Vorbacken und dem Nachbacken. Das Entwicklermodul ist ein Nassprozessentwickler, der Photoresistreste kontinuierlich vom Substrat wegspült, um eine saubere, genau strukturierte Oberfläche zu hinterlassen. Das Vorbackmodul verwendet eine thermische Behandlung, um die Haftung des Photolackfilms auf dem Substrat zu erhöhen. Schließlich nutzt das Nachbackmodul einen kurzen UV-Aktivierungsschritt, um die Photolackbeschichtung auf dem Wafer auszuhärten. Die Programmierschnittstelle für LEYBOLD CCS 250 ermöglicht Benutzern die einfache und genaue Programmierung von Betriebseinstellungen und Betriebsarten, einschließlich Musterbreiten, Auflösung, Belichtungszeiten und Nachbehandlungen. Das fortschrittliche Design des CCS 250 verfügt über eine Vierfachstrahlerkammer mit unabhängigen Hochleistungsstrahlern von Lambertian. Dies ermöglicht eine präzise Auswahl und Steuerung des für die Photolackverarbeitung benötigten Lichts von der Kommunikation über medizinische, optische, Anzeige-, Mikro-, Präzisionsteile und Flachbildschirm-Komponenten. LEYBOLD CCS 250 verfügt über erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen wie automatische Selbstdiagnose, Messung der Ansammlung von Rückständen während der Photolackverarbeitung und Online-Überwachung von Prozessparametern. Dadurch wird sichergestellt, dass in jedem Lauf optimale Leistung geliefert wird. CCS 250 bietet darüber hinaus einen überlegenen Substratschutz, einschließlich einer flüssigen Photoresist-Temperaturkontrolleinheit und einer Stickstoffplasmabedeckungsmaschine für einen vollständigen Substratschutz. Dadurch wird sichergestellt, dass die Substratoberfläche dabei nicht beschädigt wird. Schließlich bietet LEYBOLD CCS 250 eine ungleiche Prozessstabilität, Produktivität und Flexibilität, um die Kundenanforderungen zu erfüllen. Die Maschine verfügt über ein erweiterbares Design, mit dem zahlreiche optionale Komponenten hinzugefügt werden können, wie Farbmustererkennung, Speicherscannen usw. Zusammenfassend ist das CCS 250 Photoresist Tool eine fortschrittliche, hochmoderne Plattform zur Erstellung von geschützten codierten Bildern und Mustern auf der Oberfläche von Siliziumwafern. Es bietet überlegenen Substratschutz, erhöhte Prozessstabilität und beispiellose Flexibilität, um Kundenanforderungen und Anwendungen zu erfüllen.
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