Gebraucht LEYBOLD OPTICS MCS 480 #9394822 zu verkaufen

LEYBOLD OPTICS MCS 480
ID: 9394822
Mini coating systems.
LEYBOLD OPTICS MCS 480 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die schnelle Bestrahlung von Photoresists mit ultravioletter Strahlung. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten, dem Lampenquellenmodul und dem Fotoresistverarbeitungsmodul. Das Lampenquellenmodul besteht aus vier 300 Watt Quecksilberdampf-Kurzbogenlampen mit jeweils einem eigenen optischen Filter, um die richtige Intensität und Wellenlänge des UV-Lichts zu gewährleisten. Die Lampen sind in einem wassergekühlten Quarzreflektor mit einer verstellbaren Kammer eingeschlossen, die dazu dient, die Heiz- und Kühlzeiten des Photoresistmaterials zu reduzieren. Das Gehäuse kann auch so programmiert sein, dass es sich zwischen den Winkeln dreht, um eine gleichmäßige Belichtung des Photolacks auf einem Substrat zu gewährleisten. Das Photolackverarbeitungsmodul besteht aus einer Kammer, die für eine gleichmäßige Atmosphäre zur präzisen Steuerung der Umgebung während der Belichtung ausgelegt ist. Die Kammer enthält eine Gebläseeinheit zur Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung und ist mit den vier Lampen aus dem Lampenquellmodul verbunden. Die Kammer hat auch verstellbare Blenden, um die Menge an UV-Licht zu steuern, das das Substrat erreicht. MCS 480 ist in der Lage, Substrate von bis zu 25 „Durchmesser und 0,5“ Dicke bei einer Belichtungsrate von bis zu 400 nm/Sekunde zu verarbeiten. Es verfügt über eine SPS-Schnittstelle, mit der Anwender die Intensität und Wellenlänge des UV-Lichts sowie den Zeitpunkt des Belichtungs- und Kühlprozesses genau steuern können. Es verfügt auch über einen integrierten Prozesscontroller, der bis zu 200 individuelle Belichtungsrezepte für eine schnelle und einfache Einrichtung speichern kann. LEYBOLD OPTICS MCS 480 ist eine kostengünstige, leistungsstarke Photolackmaschine, die Anwendern eine schnelle, wiederholbare und präzise Belichtung bietet, die in den heutigen Präzisions-Photolithographie-Prozessen erforderlich ist. Das Werkzeug ist ideal für Anwendungen wie Maskenbau, direkte Schreiblithographie und direkte Bildgebung zur Herstellung von Halbleiterscheiben, optoelektronischen Bauelementen und Leiterplatten.
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