Gebraucht LITHOTECH CB-50 / D-50 #293605802 zu verkaufen

LITHOTECH CB-50/ D-50 Photoresist Equipment ist ein schlüsselfertiges System, das für die Entwicklung von hochauflösenden Mikroschaltungsmustern auf einer Vielzahl von Halbleitermaterialien konzipiert ist. Es ist außergewöhnlich einfach zu installieren und zu bedienen, so dass es ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen. Die Einheit verwendet einen rechnergesteuerten Schrittmotor, um eine Fotolackmaske genau über einem Halbleitermaterialsubstrat zu positionieren. Eine programmierbare Steuerung steuert die Bewegung der Maske und ermöglicht eine präzise Positionierung und Ausrichtung der Maske auf das Substrat. Die Maschine ist auch mit einem integrierten digitalen Bildgebungswerkzeug ausgestattet, um eine genaue und konsistente Belichtung des Substrats mit dem Fotolack zu gewährleisten. Das Asset ist für den Betrieb im hochauflösenden Modus konzipiert und bietet eine hervorragende Auflösung der erzeugten Muster. Das Modell kann Auflösungen von 30 Mikrometer oder weniger erreichen, wodurch höchste Qualität in einer Vielzahl von Halbleiteranwendungen erzielt wird. CB-50/ D-50 Geräte verwenden zwei Kategorien von Photoresist-Materialien: Metall-Partikel-Photoresist und organischen Photoresist. Der Metall-Teilchen-Photoresist wird zur Herstellung kritischer Leiterbahnen und zur Metallverfolgung verwendet. Der organische Photoresist dient zur Herstellung komplexer Linienmuster, Photomasken und anderer hochauflösender Muster. Neben dem integrierten Abbildungssystem umfasst das Gerät auch eine Reihe von verschiedenen Zubehörteilen für das genaue Aufbringen des Fotolacks auf das Substrat. Dazu gehören eine stationäre Sprüheinheit zum gleichmäßigen Auftragen des Photolacks, ein Spin Coater zum gleichmäßigen Verteilen des Photolacks auf das Substrat und ein Wafer-Vorreiniger, um die Entfernung von Staub oder Partikeln zu gewährleisten, die die Ergebnisse beeinträchtigen könnten. LITHOTECH CB-50/ D-50 verfügt zudem über eine automatisierte Belichtung und Entwicklung des Photolacks. Dadurch wird sichergestellt, dass der gesamte Prozess in einer kontaminationsfreien Umgebung abläuft, die die Leistung und Genauigkeit der Photolackmaschine schädigen kann. CB-50/ D-50-Tool ist ein äußerst zuverlässiges und vielseitiges Photoresist-Asset, das extrem präzise Ergebnisse liefert. Das intuitive Design und die fortschrittlichen Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie.