Gebraucht LITHOTECH DB-50-W #293605803 zu verkaufen

LITHOTECH DB-50-W ist eine überlegene Photoresist-Ausrüstung, die für fortschrittliche Lithographie und andere fortschrittliche Verfahren in der mikroelektronischen Herstellung entwickelt wurde. Es ist ein umfassendes System, das aus mehreren Komponenten besteht. Diese Komponenten wurden sorgfältig ausgewählt und formuliert, um einen starken und zuverlässigen Schutz gegen Lithographie-Chemikalien und Strahlung von Belichtungssystemen zu erzeugen, die in der Chipherstellung verwendet werden. Die Einheit enthält eine Fotolackfolie, die während der Belichtung als Schutzschicht über dem Substrat verwendet wird. Die Folie wird auf dem Substrat abgeschieden und dann einem Licht oder einem anderen Strahlenbündel ausgesetzt. Bei Belichtung ist diese Folie gehärtet und kann einen zuverlässigen Schutz vor Lithographie-Chemikalien und Strahlenbelastung oder anderen Energieformen bei der Chipproduktion bieten. Die Maschine enthält auch eine Entwicklerlösung, mit der der gehärtete Photolack nach Beendigung des Belichtungsprozesses vom Substrat entfernt wird. Diese Entwicklerlösung kann erhitzt oder behandelt werden, um den Entfernungsprozess weiter zu erleichtern und schneller. Die Lösung kann auch zum Schutz empfindlicher Komponenten auf dem Substrat während des Belichtungsprozesses verwendet werden. Das Werkzeug ist mit einer Reihe von zusätzlichen Komponenten ausgestattet, die dazu beitragen, den Photolack-Asset zu optimieren, um den optimalen Schutz zu bieten. Zu diesen Komponenten gehören Antistatika, Lichtblockmittel und transparente Polymere, die das Substrat während des Belichtungsprozesses vor den Elementen schützen. Das Modell umfasst auch chemische Mittel, die die Sicherheit des Substrats durch Schutz vor den Auswirkungen chemischer Reaktion verbessern sollen. Die Chemikalien werden so formuliert, dass sie auch in feindlichen Umgebungen wirksam bleiben und während des Prozesses nicht mit den Komponenten auf dem Substrat reagieren. Die Gesamtausrüstung ist so konzipiert, dass sie maximalen Schutz vor der Exposition gegenüber Chemikalien und Strahlung bietet und gleichzeitig kostengünstig und leicht einsetzbar bleibt. Das System bietet darüber hinaus eine hohe Flexibilität mit der Fähigkeit, die Photolackeinheit an die spezifischen Bedürfnisse der Chipherstellung anzupassen und kann auch zur weiteren Feinabstimmung des Photolackschutzes für den Produktionsprozess verwendet werden.