Gebraucht LITHOTECH DB-50-W #293662266 zu verkaufen

LITHOTECH DB-50-W Photoresist Equipment ist ein Hochleistungssystem für die Photolithographie. Es wird bei der Herstellung von Leiterplatten für industrielle und kommerzielle Produkte verwendet. Die Einheit kann verwendet werden, um komplizierte Muster auf Wafern aus Substratmaterial zu erzeugen. Diese Muster dienen zur Definition der Funktionseinheiten elektrischer und elektronischer Bauelemente. DB-50-W Photoresist Machine verfügt über ein hochauflösendes Projektionsmasken-Ausrichtwerkzeug. Mit diesem Asset können die definierten Muster genau auf das Substrat ausgerichtet werden. Die Genauigkeit der Ausrichtung sorgt für Gleichmäßigkeit auf dem Substrat und hilft, Defekte im Endprodukt zu beseitigen. Das Modell enthält auch eine Vielzahl von Masken von 0,1 bis 0,2 Zoll Größe. Diese Masken bieten die notwendige Verstärkung, damit die Muster genau auf das Substrat gedruckt werden können. Das Gerät unterstützt auch die Verwendung eines negativen Photolacks, der die Entwicklung sowohl positiver als auch negativer Bilder auf dem Substrat ermöglicht. Die Belichtung der Muster auf dem Substrat erfolgt mit einem gepulsten ultravioletten Laser mit einer Leistung von bis zu 100 Watt. Dadurch ergibt sich eine ausreichende Lichtintensität, damit die Muster in einem Bruchteil der Zeit belichtet werden können, die andere Systeme benötigen. Das System kann auch verwendet werden, um mehrere Belichtungen zu überlappen, um komplexe Bilder auf dem Substrat zu erzeugen. LITHOTECH DB-50-W Unit ist zudem mit einer automatisierten Dosier- und Entwicklungsstation ausgestattet, die dafür sorgt, dass die richtige Photolackmenge gleichmäßig auf das Substrat abgegeben wird. Dadurch entfällt die manuelle Dosierung und die Gleichmäßigkeit des belichteten Substrats wird erhöht. Die Maschine ist auch mit einer Wafer-Spin-Coating-Station ausgestattet, die eine präzise und gleichmäßige Beschichtung bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Schutzschichten ordnungsgemäß auf das Substrat aufgebracht werden und keine Defekte im Endprodukt sichtbar sind. Insgesamt ist DB-50-W Photoresist Tool eine optimale Lösung für die Erstellung kostengünstiger Leiterplatten. Es wurde entwickelt, um hohe Leistung und Genauigkeit zu bieten und gleichzeitig die Produktionszeit zu minimieren. Der Vermögenswert soll auch außergewöhnliche Einheitlichkeit bieten und Defekte am Endprodukt verhindern. Die breite Palette an Masken und die automatisierte Dosierung und Entwicklung Station helfen, die hohe Qualität des fertigen Produkts zu gewährleisten.