Gebraucht LUNG PIEN LP-1300 EBA #293623142 zu verkaufen
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ID: 293623142
Coating machine
Diameter size: 1300 mm
Fixture size: 1200 mm
Ultimate vacuum: 10^-7 Torr / 10^-5 Pa
Maximum substrate temperature: 350°C
Cooling water flow: 150 Liters/min
Cooling water temperature: 18°C - 25°C
Standard temperature: 20±1°C
Air compressor: 3HP
Air pressure: 6-8 kg / cm²
Grounding resistance: <5 Ohms
Exhaust system:
Rotary pump: 3000 Liters/min
Strengthen pump: 1,500 m³/hour
Diffusion pump: 45,000 liters/sec
Ultra low temperature freezers: -110°C~ - 140°C
Heating system:
Micro heater: 24 kW
Film thickness gauge:
Optical film thickness meter: 380 mm ~ 1050 mm
Quartz film thickness meter: Monolithic sensor head / six sensing head
Evaporation source:
PLASMATECH Electron gun, 6 kW / 10 kW
Resistance heating: 6 kW
Cooling system:
Pressure: 4 kg/cm²
Pressure: 2 kg/cm²
Power supply: 60 kW.
LUNG PIEN LP-1300 EBA-Systeme ist eine moderne Photoresist-Technologie, die für den Einsatz in der Leiterplattenindustrie entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um eine effiziente und kostengünstige Ausrüstung zur Herstellung von hochwertigen Leiterplatten in einem Bruchteil der Zeit bereitzustellen, die durch herkömmliche Methoden benötigt wird. Im Kern verwendet LP-1300 EBA-System einen flüssigen Photolack (LPR), der durch einen Sprühvorgang auf die Oberfläche der Leiterplatte aufgebracht wird. Dieser Nassresist verbindet sich chemisch mit der Kupferoberfläche und bildet eine Klebeschicht, die eine präzise Platzierung der gewünschten Komponenten ermöglicht. Das belichtete Kupfer wird dann geätzt und verfeinert, was das gewünschte Endergebnis einer Leiterplatte liefert. Das LPR vermischt und entfernt leicht nicht gewünschtes Material, was eine präzise saubere Oberfläche ermöglicht, während es sich in Richtung der gewünschten Form bewegt. LUNG PIEN LP-1300 EBA bietet auch eine fortschrittliche Lösung zur Steuerung und Härtung der Photolackschicht, die eine maximale Haftung auf dem Substrat gewährleistet. Mit Hilfe einer fortgeschrittenen UV-Lichtquelle kann das Gerät den Photolack präzise und schnell einstellen, ohne jedes einzelne Stück der Schaltung manuell bearbeiten zu müssen. Darüber hinaus verfügt LP-1300 EBA über eine mehrschichtige Resisttechnologie, die eine präzise Wiederholbarkeit und Genauigkeit bei jedem Build gewährleistet. Diese Maschine ermöglicht es dem Anwender, qualitativ hochwertige Leiterplatten mit einer extrem hohen Qualitätskontrolle herzustellen und gleichzeitig das Risiko von Beschädigungen und Defekten zu reduzieren, die bei anderen Photolackverarbeitungsverfahren auftreten können. Schließlich verfügt LUNG PIEN LP-1300 EBA auch über ein integriertes Reinigungswerkzeug, das hilft, überschüssiges Photolackmaterial, das am Substrat befestigt bleibt, zu entfernen. Diese Ausstattung, kombiniert mit der integrierten UV-Lichtquelle, sorgt für einwandfreie und hochgenaue Leiterplatten. LP-1300 EBA ist ein Hightech-Photoresist-Verarbeitungsmodell, das das Design und die Herstellung von Leiterplatten einfacher und kostengünstiger macht. LUNG PIEN LP-1300 EBA verwendet eine fortschrittliche flüssige Fotoresistenz und eine integrierte ultraviolette Lichtquelle und ermöglicht es Benutzern, hochwertige Leiterplatten mit beispielloser Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Haftung zu einem Bruchteil der Kosten traditioneller Techniken zu produzieren.
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