Gebraucht M&R AGS-1008SDFT #9238807 zu verkaufen

ID: 9238807
Wafergröße: 4"-8"
Weinlese: 2017
Developer, 4"-8" AC Servo motor: Spin speed: 10 – 6,000 rpm, +/- 5 rpm Dispense nozzle: Fixed / Mechanical movement Programmable control Temperature and pressure control 2017 vintage.
M&R AGS-1008SDFT ist eine hochmoderne Photoresist-Anlage, die mit der Absicht erstellt wurde, die Photolithographie zu vereinfachen. Es ist ideal für den Einsatz in der Herstellung und Entwicklung von strukturierten dünnen Schichten, optischen Materialien und mikroelektronischen Komponenten. AGS-1008SDFT besteht aus einer Reihe von Komponenten, die einen Photomasker, ein Belichtungssystem und einen Entwickler umfassen. Der Photomasker ist einfach zu bedienen und ermöglicht es dem Anwender, Mustergeometrie genau zu definieren. Die Belichtungseinheit verwendet Licht mit hoher Intensität und gewährleistet eine gleichmäßige und gleichmäßige Belichtung des Resistmaterials. Schließlich ermöglicht der Entwickler dem Anwender, Materialien rechtzeitig und effizient zu ätzen und zu formen. Die Maschine wurde entwickelt, um überlegene Leistung und verbesserten Durchsatz gegenüber anderen Photolacksystemen zu bieten. Das Werkzeug hat eine maximale Belichtungsauflösung von 0,5 Mikrometern und kann Schichten so dünn wie 0,5 Mikrometer entwickeln. Darüber hinaus kann das Asset Muster bei variablen Seitenverhältnissen erstellen, was detaillierte und komplizierte Konstruktionsmerkmale ermöglicht. M&R AGS-1008SDFT kann eine breite Palette von Lichtquellen unterstützen, einschließlich ultravioletter und sichtbarer Lichtquellen. AGS-1008SDFT wurde mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche benutzerfreundlich gestaltet und ist leicht tragbar. Um optimale Ergebnisse zu erzielen, verfügt das Modell über hochpräzise Komponenten und kann für präzise Belichtungszeiten kalibriert werden. Das Gerät bietet auch integrierte Funktionen für die Datenverwaltung, um Fehler bei der Verarbeitung zu reduzieren. Insgesamt ist M&R AGS-1008SDFT eine ideale Wahl für die Photolithographie in der modernen Fertigung. Seine hervorragende Leistung, Eigenschaften und Portabilität bieten modernste Lösungen für die Entwicklung von dünnen Schichten, optischen Materialien und mikroelektronischen Komponenten.
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