Gebraucht MIKASA 1H-D2 #9393317 zu verkaufen

MIKASA 1H-D2 ist ein modernes Photoresist-Gerät, das eine hervorragende Leistung in anspruchsvollen lithographischen Anwendungen bietet. Photoresists sind Materialien, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden und mittels eines lithographischen Projektors Licht ausgesetzt werden. Je nach Belichtung wird das Resistmaterial wahlweise weggeätzt oder verbleibt, was zu komplexen Mustern führt, die die Basis für Schaltungskomponenten bilden. 1H-D2 bietet überlegene Mustertreue im Vergleich zu herkömmlichen Photoresists in anspruchsvollen Photolithographie-Anwendungen. MIKASA 1H-D2 besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem lichtempfindlichen Resistmaterial und einem Musterprozess. Das lichtempfindliche Material besteht aus einem polymeren Bindemittel mit einer Vielzahl von Additiven, die auf unterschiedliche Lichtwellenlängen reagieren. Bei Belichtung mit der Lichtquelle verhärtet sich der freiliegende Teil des Resists, während die ungehärteten Teile des Resists weich bleiben. Dies ermöglicht das Ätzen von Bauteilen oder Mustern, um komplexe Muster und Strukturen zu erzeugen. Der Musterprozess 1H-D2 Systems besteht aus einer Reihe von Schritten, bei denen der Resist freigelegt, entwickelt und nachbehandelt wird. Während des Belichtungsvorgangs wird der Resist auf die lithographische Projektionslinse aufgesetzt und der durch die Linse hindurchgehenden Lichtquelle ausgesetzt. Nach der Belichtung und je nach Belichtungszeit härten sich die Belichtungsbereiche des Resistes aus und die weichen Bereiche können selektiv mit einem chemischen Ätzmittel entfernt werden. Nach diesem Schritt erfolgt der chemo-mechanische Entwicklungsprozess, der mit einer Kombination aus chemischen und mechanischen Methoden nicht umgesetzte Teile des Resists entfernt. Schließlich erfolgt der Nachbehandlungsschritt, bei dem jeder verbleibende Weichresist mit einem anderen chemischen oder mechanischen Verfahren entfernt wird. Die Vorteile der Verwendung von MIKASA 1H-D2 Photoresist-Einheit umfassen eine erhöhte Auflösung gegenüber herkömmlichen Photoresists sowie eine verringerte Waferverlust- und Entwicklungszeit. Die verbesserte Auflösung des Resists trägt zur Verbesserung des Strukturierungsprozesses bei und reduziert die Kosten für die Geräteherstellung. Zusätzlich verringern sich Waferverlust und Entwicklungszeit durch die Fähigkeit, Bereiche des Resists selektiv zu behandeln, wodurch Bereiche entfallen, die für das Gerätedesign nicht erforderlich sind. Abschließend ist 1H-D2 eine hochmoderne Photolackmaschine, die eine hervorragende Auflösung und Leistung in lithographischen Anwendungen bietet. Die verbesserte Auflösung trägt zur Verbesserung des Geräteherstellungsprozesses bei, und der verringerte Waferverlust und die Entwicklungszeit machen den gesamten Produktionsprozess effizienter.