Gebraucht MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408SE #9280828 zu verkaufen

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408SE
ID: 9280828
Weinlese: 2004
Plating system 2003 vintage.
MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408SE ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zur Belichtung von Substraten für Lithographie oder Leiterplatten verwendet wird. MP-1408SE besteht aus einer Vakuum-Ultraviolett (VUV) -Lampenquelle zur UV-Beleuchtung, einer Maskenstufe zum Halten einer Metall- oder Chrommaske, einem optischen Weg zwischen Lampe und Maske und einer Substratstufe zum sicheren Halten und Bewegen der Substrate. Die Lampenquelle erzeugt einen linienfokussierten VUV-Strahl. Mehrere Fokussierlinsen werden im System verwendet, um den Strahl durch einen stark abgestimmten optischen Weg zu lenken. Dadurch kann der Strahl bis auf einen kleinen Punkt fokussiert werden, wodurch ein hochauflösendes Bild auf dem Substrat erzeugt wird. Das Gerät enthält auch einen diffusiven Kollimator, um die Gleichmäßigkeit über das Substrat und eine Abschirmung zum Schutz vor Streumissionen zu gewährleisten. Die Maskenstufe ist eine hochpräzise, ultrastabile Maschine, die das Metall oder die Chrommaske über dem Substrat hält. Die Bühne besteht aus einem Rollenwerkzeug, um die Maske für die Belichtung auszurichten und zu stabilisieren. Es enthält auch zwei präzise lineare Stufen, eine für horizontal und eine für vertikal, um eine präzise Fokussierung der Maske auf dem Substrat zu ermöglichen. Die Substratstufe ist so konzipiert, dass sie ein Substrat jeder Größe oder Form bis zu einer Länge von 25 mm hält. Es hat ein Sieben-Positionen-Spannfutter, um das Substrat während des Belichtungsprozesses fest zu halten. Das Spannfutter ist auf einem Drehantrieb montiert, um eine präzise und wiederholbare Positionierung des Substrats zu ermöglichen. Auf der Bühne ist außerdem ein UV-Filter montiert, um das Substrat vor der Lampenstrahlung zu schützen. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408SE ist ein äußerst zuverlässiger und vielseitiger Photoresist. Es bietet eine schnelle und genaue Belichtung und ermöglicht eine präzise und wiederholbare Positionierung des Substrats. Seine hochpräzisen optischen Komponenten und robusten Stufen sorgen für überlegene Bildqualität und Gleichmäßigkeit. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Substratmaterialien einschließlich Polyimid, Kieselsäure und Glas freizulegen. Darüber hinaus ermöglicht die einstellbare Lampensteuerung eine Feinabstimmung der Helligkeit des Strahls für optimale Auflösung und Belichtungszeiten.
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