Gebraucht MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243731 zu verkaufen

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN ist eine Photoresist-Ausrüstung der nächsten Generation, die eine hohe Präzision und hohe Qualität in die Halbleiterbauelementproduktion bringt. Dieses System erzeugt schnell und präzise Dünnschichtschichten, die als Fotolackmaske für die Herstellung von hochdichten Geräten verwendet werden. MP-1408T LN ist als wirtschaftliche Lösung für Photoresist-Belichtungsgeräte konzipiert und kann zur Herstellung einer Vielzahl von Gerätestrukturen wie Hochgeschwindigkeits-DRAMs, Flash-Speicher und 3D-gestapelte Chips verwendet werden. Die Maschine verwendet eine spezielle optische Einheit, die eine Aberrationskorrektur durchführt, und ihre Bildauflösungsgenauigkeit beträgt 0,25 μ m bei einer minimalen Linienbreite von 0,06 μ m. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN verwendet eine ultrafeine asphärische Pitch-Linse als Belichtungsquelle, die eine gleichmäßige Bestrahlung über einen weiten Wellenlängenbereich für sichtbares und ultraviolettes Licht ermöglicht. Es ist in der Lage, max. 13.000mm/min zu scannen, was eine Hochgeschwindigkeits-Einstrahlproduktion ermöglicht. Darüber hinaus verfügt diese Fotolackmaschine über einen weiten Belichtungsbereich von 0,25 bis 450 μ m und einen weiten Auflösungsbereich von 1 μ m/p bis 0,25 μ m, um den vielfältigen Anforderungen an die Herstellung von Halbleiterbauelementen gerecht zu werden. MP-1408T LN verwendet ein automatisiertes Fokussierwerkzeug für hohe Präzision sowie ein integriertes Monitor-Asset, das den gesamten Betriebsprozess genau verfolgt. Sein fortschrittliches Stufenmodell ist in der Lage, eine segmentierte Luftlagertisch Bewegung und Kopfpositionierung, so dass eine Feinabstimmung und Geschwindigkeitseinstellung ohne Einbußen bei der Auflösung. Durch den Einsatz der mitgelieferten Bordvorverarbeitungssoftware kann eine Prozessoptimierung problemlos erreicht werden. Darüber hinaus verfügt MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN über eine überlegene Sauberkeit im Vergleich zu anderen Photolacksystemen, da alle Komponenten nach höchsten Qualitätsstandards konstruiert und konstruiert werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Halbleiterherstellung mit minimalem Schmutz durchgeführt werden kann, wodurch die Wahrscheinlichkeit von Bauelementverschmutzungen und möglichen Produktionsverzögerungen reduziert wird. Insgesamt ist MP-1408T LN ein hochentwickeltes Photolacksystem, das eine hohe Genauigkeit und Präzision für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Es verfügt über eine optische Einheit, die Aberrationskorrektur und einen weiten Belichtungsbereich durchführen kann, mit einer automatisierten Fokussiermaschine und Vorverarbeitungssoftware für optimierte Prozesse. Die Maschine ist auch für überlegene Sauberkeit ausgelegt, um sicherzustellen, dass die Produktion mit minimalem Schutt durchgeführt werden kann.