Gebraucht MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243732 zu verkaufen

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN
ID: 9243732
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2013
AU Plating system, 8" 2013 vintage.
MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN ist eine Photolackanlage zur Entwicklung und Verarbeitung von hochdichten Halbleiterbauelementen. Das System verfügt über ein Photolackmodul, ein Sprühmodul, ein Vorbehandlungsmodul und ein Nachbehandlungsmodul, um eine umfassende Lösung für weiche und harte Photolackprozesse bereitzustellen. Das Photolackmodul nutzt fortgeschrittene optische Prozesse, um Halbleiter mit präzise geformten Mustern zu belichten. Dazu gehören digitale Hochgeschwindigkeitsbildgebung, Maskenbildgebung und Inspektionsfunktionen, die den effizienten schichtweisen Aufbau komplexer Designs aus mehreren Substraten ermöglichen. Substrate bis 300 mm Durchmesser können bearbeitet und bis zu fünf Maskierungen durchgeführt werden. Der Einsatz eines vollautomatisierten, automatischen Nivellierprozesses erhöht die Genauigkeit und Geschwindigkeit des Prozesses weiter. Das Sprühmodul bietet eine enge Prozesssteuerung und eine gleichmäßige Materialabscheidung. Es besteht aus einer selbstnivellierenden Aufspritz- oder Sprüheinheit zum Aufbringen des Resistmaterials, gefolgt von einer patentierten Mehrzonen-Trocknungsmaschine. Die Spin-on-Methode erzeugt genaue konforme Linien mit hoher Auflösung, während die Sprühtechnik dreidimensionale Merkmale mit überlegener Gleichmäßigkeit liefert. Das Vorbehandlungsmodul dient zur Reinigung und Oberflächenkonditionierung vor der Photoresistabscheidung. Es umfasst sowohl saure als auch chemische Grundprozesse zur Reinigung von Verunreinigungen von der Oberfläche. Als zusätzliche Schutzschicht gibt es keine Zusammenhänge von Reinigungschemikalien, und die Vorbehandlungsmischung wird mehrmals für überlegene Musterqualität und Wiederholbarkeit wiederverwendet. Das Nachbehandlungsmodul vervollständigt den Prozess durch Entfernen von Restphotoresist. Es besteht aus einem wässrigen Abstreifwerkzeug, gefolgt von einem Warmwasserspül- und Trocknungsvorgang. Dieses mehrstufige Verfahren gewährleistet die vollständige Entfernung von Photolack von Substraten verschiedener Größen. MP-1408T LN ist eine vielseitige und kostengünstige Lösung für die Entwicklung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation. Seine automatisierten Prozesse bieten eine hervorragende Produktqualität und sind in der Lage, sowohl weiche als auch harte Photolackschichten zu verarbeiten. Dadurch eignet sich das Asset für den Einsatz in einer Vielzahl von Schaltungskonstruktionen.
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