Gebraucht MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-5M8K-NPS #293664056 zu verkaufen

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-5M8K-NPS Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Lösung für fortschrittliche Anwendungen in der Siliziumlithographie. Das System nutzt eine tiefe ultraviolette (DUV) Lichtquelle zur Strukturierung von Wafern mit hochgenauen Funktionen in einer Reinraumumgebung. Es kombiniert einen Hochleistungslaser mit Optik, mechanischen Schemata und Elektronik, um maximale Auflösung, Durchsatz und Zuverlässigkeit zu liefern. MP-5M8K-NPS Gerät ist mit einer anamorphen Projektionsmaschine mit minimaler Aberration ausgelegt, die eine große Reduzierung der Belichtungsfläche ermöglicht und eine präzise Platzierungsgenauigkeit gewährleistet. Es verfügt über eine Auflösungsfähigkeit von 0,11 Mikrometer bei einem Reduktionsverhältnis von 5x, um Merkmale genau abzugrenzen. Das Tool wurde mit höherwertiger Leistungslaserdiodentechnologie erweitert, um einen optimalen Durchsatz bei hervorragender Wiederholbarkeit und Langzeitleistung zu ermöglichen. Darüber hinaus ist die Anlage mit einem innovativen Controller für die simultane Multi-Puls-Steuerung ausgestattet, der die Bereitstellung mehrerer Spalt- (Box) Belichtungen ermöglicht und somit ideal für die Photolithographie in einer Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-5M8K-NPS Modell wird mit einer Kühleinheit zur Kühlung der optischen Elemente und der Laserdiode sowie einer hochpräzisen, mehrachsigen Stufe geliefert, um eine präzise Ausrichtung zu gewährleisten. Die innovative Waferkassettenausrüstung sorgt für kurze Belichtungszeiten bei gleichzeitiger Verbesserung der Wiederholbarkeit. Der eingebaute Lecksucher und die Drucküberwachung sorgen zudem für eine exakte Steuerung der für eine zuverlässige Projektionslithographie notwendigen Vakuumumgebung. Zusätzlich zu seiner ausgezeichneten Qualität Bilder, ist MP-5M8K-NPS System entworfen, um die Partikelbildung zu minimieren. Es ist mit einem ersten aktiven Partikelzähler seiner Art ausgestattet, der Echtzeit-Feedback zur Optimierung der Hintergrundverschmutzung liefert. Die Anlage weist ferner eine Inertgasversorgungsmaschine auf, die das Einleiten unterschiedlicher Gase in die Kammer zur Steuerung der Verschmutzungswerte ermöglicht. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-5M8K-NPS Photoresist-Tool wurde entwickelt, um OEMs in der Halbleiterindustrie eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für ihre Lithographie-Anforderungen bereitzustellen. Seine hervorragende Leistung, sein breites Spektrum an Funktionen und seine hochpräzise Strukturierung machen es zur perfekten Wahl für jede Lithographieanwendung.