Gebraucht MSETEK VRD 8000 #9280585 zu verkaufen

MSETEK VRD 8000 Photographic Resist Equipment ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Herstellung von Photoresist-Funktionen auf Substraten. Es handelt sich um ein System, das speziell für die Abscheidung von Photolackschichten auf Wafern oder Substraten ausgelegt ist, die dann für die Lithographie und andere Anwendungen in der Halbleiterindustrie verwendet werden. VRD 8000 ist eine vielseitige Plattform, die in der Lage ist, eine Vielzahl von Photolackstrukturen mit extrem hoher Auflösung und Qualität zu produzieren. Mit der Maschine können ultradünne Schichten in der Größenordnung von wenigen Nanometern hergestellt werden. Dies macht das Tool nützlich für Anwendungen, die Funktionen von geringer Größe erfordern. Die Anlage ermöglicht auch die Abscheidung von Materialien mit In-situ-Laserbelichtung und ist damit ein leistungsstarkes Werkzeug für Lithographiebetriebe. Das Modell MSETEK VRD 8000 ist in der Lage, eine Vielzahl von Photolackschichten herzustellen. Es kann auch mehrere verschiedene Arten von Schichten, wie positive oder negative Photolackschichten, und Substrat spezifische Muster. Das Gerät kann auch angepasst werden, um verschiedene Photolackschichten und -muster herzustellen, je nach Anwendung. VRD 8000 ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen zum Schutz des Substrats und des Bedieners ausgelegt. Das System verwendet ein Kapuzengehäuse, um die während des Photoresist-Abscheidungsprozesses entstehenden Dämpfe zu enthalten. Darüber hinaus ist das Gerät mit einem Gehäusetemperaturmonitor ausgestattet, um eine sichere Betriebstemperatur für die Maschine aufrechtzuerhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass das zu bearbeitende Substrat nicht beschädigt wird. MSETEK VRD 8000 Werkzeug verwendet auch eine Vielzahl von Sensoren und Reglern, die in der Genauigkeit der Fotolackabscheidung helfen. Die Anlage verwendet einen Laser-Bildgebungsprozess, um die genaue Position des Photoresist-Merkmals auf dem Substrat zu erfassen, was eine hohe Genauigkeit für das erzeugte Muster bietet. Darüber hinaus kann das Modell programmiert werden, um die Kontaktzeit und die Laserleistung zu steuern, um die richtige Ätz- und Kontaktzeit des Fotolacks zu gewährleisten. Insgesamt ist die VRD 8000 Photoresist-Ausrüstung ein sehr vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug zur Herstellung von Photoresist-Merkmalen auf Substraten. Mit seinen fortschrittlichen Sicherheitsmerkmalen, den genauen Laserbildfunktionen und der Fähigkeit, den Abscheidungsprozess anzupassen, ist das System ideal für eine Vielzahl von lithographiebezogenen Anwendungen in der Halbleiterindustrie.