Gebraucht MTC Cleaner Marine 4033-S319 #293631732 zu verkaufen

ID: 293631732
System Mask format: 6" x 6" x 250 mL Excimer UV (2) Spin cleans Spin dry Hot plate Cool plate.
MTC Cleaner Marine 4033-S319 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung an der Spitze der digitalen Bildgebung für lithographiebasierte industrielle Prozesse. Das System besteht aus einem Photolackentferner, einer Waferreinigungseinheit und einer Beschichtungsleitung. Es wurde entwickelt, um saubere und zuverlässige Ergebnisse in Lithographie-Prozessen zu liefern. Der Photolackentferner, mit dem die Oberfläche eines Siliziumwafers vor der Beschichtung mit einer neuen Photolackschicht gereinigt wird, nutzt eine innovative UV-Reinigungsmethode. Dadurch soll sichergestellt werden, dass alle Verunreinigungen wirksam entfernt werden, ohne die darunter liegende Siliziumoberfläche zu beschädigen. Die Maschine beseitigt auch jede statische elektrische Ladung, die Probleme bei Lithographie-Prozessen verursachen kann. Das Wafer-Reinigungswerkzeug verwendet eine Kombination aus naßchemischer Reinigung und fortschrittlicher Filtrationstechnologie, um organische und anorganische Verunreinigungen von der Waferoberfläche zu entfernen. Dieses Verfahren ist hochwirksam, um Partikel mit einer Größe von bis zu 5 Nanometern zu entfernen. Mit der Beschichtungslinie wird eine dünne konforme Schicht aus Beschichtungsmaterial auf die Waferoberfläche aufgebracht. Dies ist wesentlich, um das zugrundeliegende Silizium vor Verunreinigungen und Beschädigungen bei Lithographieprozessen zu schützen. Es verwendet eine hochmoderne Beschichtungsleitung, die zur Verringerung von Defekten im Zusammenhang mit Beschichtungsvorgängen und zur präzisen Steuerung der Dicke der Beschichtung ausgelegt ist. Insgesamt ist Cleaner Marine 4033-S319 Photoresist Asset eine zuverlässige und fortschrittliche Ausrüstung, die hervorragende Ergebnisse in lithographiebasierten Prozessen liefert. Seine innovativen Technologien sollen saubere und konsistente Ausbeuten in Lithographieverfahren fördern, was eine präzise Kontrolle und eine höhere Genauigkeit ermöglicht. Dieses Modell ist eine ausgezeichnete Wahl für lithographiebasierte Unternehmen, die eine überlegene Leistung in ihrem Produktionsprozess erzielen möchten.
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