Gebraucht MTH 30 #194143 zu verkaufen

MTH 30 ist eine flüssige Photolackausrüstung, die von der MicroChem Corporation entwickelt und produziert wurde. Es besteht aus einem proprietären Phenol-Formaldehyd-Photoinitiator auf wässriger Basis und einem breiten Spektrum flüssiger Photoresistharze. 30 System ist formuliert, um höhere Auflösung, verbesserte Haftung und höhere Beständigkeit gegen Chemikalien zur Verfügung zu stellen. Die Photolackeinheit MTH 30 wird in der Photolithographie eingesetzt, einem Verfahren zur Übertragung von Mustern über Licht und Chemie. Es wird hauptsächlich zur Herstellung von Leiterplatten und Photomasken verwendet. Nach dem Aufbringen und Entfernen des Lösungsmittels wird der lichtempfindliche Film dann mit Licht bestimmter Festigkeit und Wellenlänge belichtet. Die Lichtbelichtung aktiviert den Photoinitiator, der aus den formulierten Harzen reaktive Zwischenprodukte bildet. Diese reaktiven Spezies bewirken eine Veränderung der Löslichkeit des Photolacks. Nach der Belichtung wird der Photolack mit geeignetem Lösungsmittel entwickelt, um unbelichteten Photolack zu entfernen und eine strukturierte Oberfläche freizulegen. Die Vorteile von 30 Photoresist-Maschine sind seine Fähigkeit, kleine und reproduzierbare Muster zu schaffen, mit einer Auflösung bis zu 10 Mikrometer. Das Werkzeug hat auch ausgezeichnete Beständigkeit gegen gängige Entwicklerlösungen und ausgezeichnete Stabilität für lange Haltbarkeit. Es bietet eine gute Haftung zu reinigen Substrate und gute Herstellbarkeit mit einem niedrigen Preis pro Wafer. Darüber hinaus ist MTH 30 Photoresist Asset leicht zu reinigen und kompatibel mit vielen organischen Lösungsmitteln, so ist es gut für eine Vielzahl von elektronischen, optoelektronischen und anderen verwandten Anwendungen geeignet. Zusammenfassend ist 30 ein Hochleistungs-Photoresist-Modell, das von MicroChem Corporation entwickelt und produziert wurde. Es wird formuliert, um höhere Auflösung, verbesserte Haftung und höhere Beständigkeit gegen Chemikalien bereitzustellen. Es wird in der Photolithographie verwendet und hat viele Vorteile wie verbesserte Auflösung, ausgezeichnete Haltbarkeit und Verträglichkeit mit vielen organischen Lösungsmitteln.