Gebraucht MTI A78967 #168858 zu verkaufen

MTI A78967
Hersteller
MTI
Modell
A78967
ID: 168858
Wafer coaters Slight scuffs on machines.
MTI A78967 Photoresist Geräte ist eine beliebte Wahl für integrierte Schaltungen (IC) Herstellung und mikroelektromechanische Systeme (MEMS) Technologien. Das System umfasst mehrere Module, darunter einen Spin Coater, eine Photolackheizung und eine berührungslose Backvorrichtung. Mit dem Spin Coater wird Photolack schnell auf ein Substrat, typischerweise einen Siliziumwafer, abgegeben. Es spinnt den Wafer, um eine gleichmäßige Beschichtung des Photolacks zu gewährleisten, der später UV-Licht ausgesetzt wird, um den Wafer zu mustern. Die Photoresist-Heizmaschine optimiert den Weichbackprozess, was dazu beiträgt, die Gleichmäßigkeit der Abdeckung des Fotolacks während des nachfolgenden Belichtungsschritts sicherzustellen. Die berührungslose Backvorrichtung dient zur Erwärmung des Substrats sowie zur gleichmäßigen Wärmeverteilung innerhalb des Substrats, wodurch eine genaue Durchführung des Weichbackens gewährleistet ist. A78967 ist ein äußerst zuverlässiges und effizientes Werkzeug für die Photolackverarbeitung. Das Asset nutzt mehrere Module für genaue und einheitliche Ergebnisse und ermöglicht präzise Ergebnisse im Photoresist-Musterprozess. Das Modell kann große Substratgrößen, insbesondere solche, die in der IC-Produktion verwendet werden, mit guten Ergebnissen verarbeiten. Die Eigenschaften der Spin Coater, wie einstellbare Spin-Geschwindigkeiten, können leicht angepasst werden, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Die Photoresist-Heizeinrichtung verfügt zudem über einstellbare Temperaturen und Zeiteinstellungen und bietet Flexibilität bei der Entwicklung genauer Photoresist-Muster. Die berührungslose Backvorrichtung sorgt für eine gleichmäßige Erwärmung des Substrats, was zudem genaue Musterergebnisse gewährleistet. Insgesamt ist MTI A78967 Photolacksystem eine zuverlässige und einfach zu bedienende Einheit für die IC- und MEMS-Herstellung. Die Fähigkeit, verschiedene Einstellungen und Faktoren zu manipulieren, kann präzise und gleichmäßige Ergebnisse für die Photoresist-Strukturierung während des IC-Herstellungsprozesses gewährleisten. Mit seinen hocheffizienten Modulen und mehreren benutzerfreundlichen Funktionen kann die Maschine leicht zur Wahl für die Fotolackverarbeitung werden.
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