Gebraucht MTI CORPORATION MSK-AFA-I #9283974 zu verkaufen

MTI CORPORATION MSK-AFA-I Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches und effizientes System zur Vergrößerung der Belichtungsfläche in Photoresist-Prozessen in der Halbleiterindustrie. Das Gerät kombiniert eine einzige Fotomasken- und Fotoresistkammer mit fortschrittlichen Komponenten, die eine Kombination aus Agilität, Belichtungsfläche und schneller Wendezeit bieten. Die Maschine nutzt eine integrierte, vollautomatische Stufe und eine einzige Fotomaske, um den Fotolack zu belichten, was zu einer großen Belichtungsfläche im Vergleich zu einem Standard-Fotolackwerkzeug führt. Die automatisierte Anlage umfasst ein Hochgeschwindigkeitsfahrmodell, eine lineare Bewegungsstufe, eine patentierte LSS eXP-Stufe, eine integrierte optische Ausrüstung und eine fortschrittliche plasmaverbesserte PECVD-Einheit (Chemical Vapor Deposition). Dieses System ermöglicht eine größere Belichtungsfläche als herkömmliche Systeme und ermöglicht einen höheren Durchsatz. Die lineare Bewegungsstufe des MSK ist vielseitig einsetzbar und umfasst Elemente wie Rampen mit variabler Geschwindigkeit und eine schnelle Geschwindigkeitsüberwachungseinheit. Dadurch ist es möglich, die Beschleunigung der Photomaske während des Belichtungsprozesses dichter zu steuern und die Belichtungsfläche präzise zu steuern, um eine höhere Genauigkeit bei der Erzeugung komplexer Photoresistmuster zu erreichen. Die Maschine nutzt auch Smart EXposure™ mit Multi-Task-Ziele in der Lage, neue Ebenen der Agilität und Geschwindigkeit zu erreichen, bei gleichzeitiger Erhöhung der Effizienz des Prozesses. Das Werkzeug kann auch die Länge des Belichtungsprozesses reduzieren, indem die Menge der verwendeten Photomaske reduziert wird, und das integrierte optische Gut kann mehr als 25% des Lichts in eine kontinuierliche Welle übertragen. Das Modell MSK-AFA-I verfügt zudem über bis zu vierstufige Heizmöglichkeiten, die eine präzise Kontrolle der Photolackeigenschaften während des Belichtungsprozesses ermöglichen. Das Gerät bietet auch eine hohe Ausbeute durch ein patentiertes Magnesiumfluorid (MgF2) CVD-Abscheideverfahren, das die Empfindlichkeit des Photolacks gegenüber UV-Licht signifikant erhöht. Dieses System verfügt auch über die patentierte SPClean100™-Einheit, eine patentierte Reinigungsmaschine, die einen Staubsauger mit einem Nassätzreinigungswerkzeug kombiniert, um alle Rückstände aus der Fotomaske abzugeben und zu entfernen. Schließlich ist MTI CORPORATION MSK-AFA-I Asset mit einem proprietären Softwarepaket ausgestattet, das eine einfache Änderung der Einstellungen, die Programmierung von Parametern und den automatisierten Betrieb ermöglicht. Die grafische Benutzeroberfläche (GUI) des Modells vermittelt dem Bediener zudem ein intuitiveres Verständnis der Belichtungsprozesse und ermöglicht eine effiziente Steuerung der Photomaske, um für jede Belichtung ein qualitativ hochwertiges Ergebnis zu erzielen. MSK-AFA-I Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches und hocheffizientes Werkzeug für Photoresist-Prozesse in der Halbleiterindustrie. Es nutzt integrierte automatisierte Komponenten und Software, um die Belichtungsfläche zu erhöhen, sowie Flexibilität und verbesserte Genauigkeit und Konsistenz. Das System bietet zudem robuste Reinigungsfunktionen sowie eine hohe Ertragsgeschwindigkeit und ist damit die ideale Lösung für jede Photoresist-Produktion.