Gebraucht MTI FLEXIFAB #16662 zu verkaufen

MTI FLEXIFAB
Hersteller
MTI
Modell
FLEXIFAB
ID: 16662
with Coat Bake and Develop Stations Robot load for up to 8" wafers Includes spinner module and hot plate module.
MTI FLEXIFAB ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von Molecular Track Imaging (MTI) für Richtenergieanwendungen entwickelt wurde. FLEXIFAB verwendet eine Lithographietechnik auf Polymerbasis, die eine spezifisch strukturierte Photolackschicht umfasst, wobei die Photolackmaterialien unterschiedlich auf die Belichtung von UV-Licht entlang verschiedener vorbestimmter Wege reagieren. Durch die Steuerung des Bild-zu-Substrat-Verhältnisses (I/S-Verhältnis) und anderer Parameter können über komplexe Substrate gewünschte Muster erreicht werden. MTI FLEXIFAB ist ein funktionsfähiges System mit beispielloser Lithographie-Vielseitigkeit. Es ist in der Lage, Auflösungen zu produzieren, die denen der neuesten Deep UV (DUV) -Systeme vergleichbar sind, jedoch ohne die Notwendigkeit einer teuren DUV-Hardware. Das Gerät ist hoch programmierbar mit integrierter Computerhardware, benutzerdefinierter Software, Wafererkennungs- und Kalibrierfunktionen und intuitiver Bedienung. Die FLEXIFAB-Maschine ist speziell für den Hochgeschwindigkeitsbetrieb konzipiert und ermöglicht eine schnelle Drehung von mikroelektronischen Geräten. Es liefert optimale Ergebnisse für Photolackanwendungen wie Soft Direct Write (SDW) und Direct Imaging (DI). MTI FLEXIFAB wurde erfolgreich bei der Herstellung dynamischer Random Access-Speicher (DRAMs) und anwendungsspezifischer integrierter Schaltungen (ASICs) eingesetzt. FLEXIFAB bietet eine hohe Präzision im Bereich der Lithographie. Das Werkzeug kann extrem feine Bilder mit großer Klarheit und Gleichmäßigkeit erzeugen. Die automatische Kalibrierung und Wafererkennung kombiniert mit der Verwendung von mehreren Photomasken und Substraten ermöglicht Flexibilität und Präzision in Bezug auf die perfekte Ausrichtung von Strukturen. Die in dieser Anlage verwendeten Photoresists haben eine extrem hohe Auflösung, so dass optische Vergrößerungen von bis zu 10,000X möglich sind. Das Modell eignet sich besonders für die Massenproduktion von mikroelektronischen Geräten. Es ermöglicht die Verfeinerung bestehender Technologien und bietet gleichzeitig kostengünstige Möglichkeiten, neue Technologien zu entwerfen. Darüber hinaus ist das Gerät mit mehreren Substraten und Photomasken kompatibel. Auf diese Weise können Hersteller schnell große Mengen an Produkten mit hoher Wiederholbarkeit und Genauigkeit produzieren. Abschließend ist das MTI FLEXIFAB-System eine hocheffiziente und technisch fortschrittliche Photoresist-Einheit, die sich durch fortschrittliche Funktionen, Programmierbarkeit und Geschwindigkeiten auszeichnet. Es ermöglicht extrem feine Bilder und ist kompatibel mit mehreren Substraten und Photomasken. Die integrierten Merkmale, die Wafererkennung und die Wiederholbarkeit machen es ideal für die Serienproduktion von mikroelektronischen Geräten auf kostengünstige Weise.
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