Gebraucht MTI FLEXIFAB #83580 zu verkaufen

MTI FLEXIFAB ist ein Photoresist-Gerät, das die Herstellung und Verarbeitung von Wafern für die Halbleiterherstellung vereinfacht. Es wurde entwickelt, um die Photolithographie und über Wandätzprozesse fortschrittlicher 3D-Architekturen und heterogene Integration zu beschleunigen. Das System kann in jede Standard-Fertigungsanlage integriert werden, was Vielseitigkeit und Skalierbarkeit ermöglicht. FLEXIFAB verfügt über eine patentierte Technologie, die als „Smart Flex“ bezeichnet wird und die die Auflösung von Zeilennähten, Overlay- und Registrierungsproblemen automatisiert. Die Skalierbarkeit des Geräts ermöglicht bis zu 8-Zoll-Substrate und verfügt auch über 25mm Seitenwandoptionen mit einer feinen Auflösung von bis zu 0,2 µm. Das Smart Flex-Feature gewährleistet eine integrierte Prozesssteuerung für eine korrekte Filmbildung, um gewünschte Filmdicken von 1 µm bis über 20 µm zu erreichen und ist in der Lage, eine registerlose Waferregistrierung durchzuführen. Die Photoresist-Maschine bietet einen hohen Volumendurchsatz durch die Integration der verschiedenen Schritte der Photoresist-Strukturierung und -Etchback in einem Gerät. Dies verschlankt das Verfahren, wodurch die Herstellungskosten reduziert werden. Das Werkzeug ist einfach zu bedienen, erfordert einen minimalen Eingriff des Bedieners und bietet eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Ertragsleistung. Die Echtzeit-Prozessüberwachung und -kontrolle der Anlage ermöglicht ein effektives Prozessmanagement und damit einen erhöhten Durchsatz und verbesserte Erträge. MTI FLEXIFAB unterstützt eine Reihe von Materialien, von Silizium bis GaAs, und verschiedene Verfahren wie Ätzen, Nass- und Trockenreinigung, Strippen und Nanostrukturbildung. Es ist mit einem fortschrittlichen optischen Inspektionsmodell ausgestattet, das eine leistungsstarke Prozessgenerierung und -überprüfung ermöglicht, die Erträge maximiert und wertvolle Arbeitsstunden reduziert. Das Gerät verarbeitet Photoresists auf dem Chip, Schicht für Schicht, und praktisch eliminiert manuelle Litho-Ätzmuster für die elektronische Geräteherstellung. Es ist für Rapid Prototyping von Elektronik konzipiert, die kürzere Entwicklungszyklen, eine bessere Kostenkontrolle und eine verbesserte Produktleistung ermöglicht. Dieses Photoresist-System hilft, die Ausbeute zu erhöhen und die Produktionszykluszeit zu reduzieren, was die Wirtschaftlichkeit weiter verbessert.