Gebraucht MTI FLEXIFAB #97296 zu verkaufen

MTI FLEXIFAB ist eine Photolackausrüstung, die von Material and Testing Instruments (MTI) für die Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Das System bietet ein hohes Maß an Flexibilität und ermöglicht die Erstellung einer Vielzahl von Strukturen, einschließlich Blindvias, Schrittabdeckung und Oberflächenprofilen. Die Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten - einer Fotolackiermaschine und einem Mustergenerator. Das Photoresist-Abscheidungswerkzeug ist so ausgelegt, dass eine Schicht aus Photoresist gleichmäßig über einem Substrat abgeschieden wird. Es verwendet einen automatisierten Resist-Spinner mit hoher Kapazität, um den Resist-Applikationsprozess genau zu steuern. Der Spinner ist in der Lage, den Resist mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten abzuscheiden und ist in hohem Maße wiederholbar, was konsistente Ergebnisse auf verschiedenen Substraten ermöglicht. Die zweite Komponente ist ein Mustergenerator. Diese Vorrichtung dient zum Aufdrucken eines Musters auf den abgeschiedenen Fotolack, der als Führung für den Ätzvorgang dient. Das Muster kann in das Asset programmiert werden, um die Größe und Form der erstellten Strukturen genau zu steuern. Das Gerät enthält auch eine Kamera, die verwendet werden kann, um Fehler im Muster zu erkennen, so dass Anpassungen nach Bedarf durchgeführt werden können. Die Kombination dieser beiden Komponenten bietet gegenüber herkömmlichen Photolithographieverfahren eine Reihe von Vorteilen. Ein solcher Vorteil ist die Fähigkeit des Modells, komplizierte dreidimensionale Strukturen zu schaffen, die mit traditionellen Lithographietechniken unmöglich sind. Darüber hinaus führt die hochpräzise Steuerung der Resist-Applikations- und Strukturierungsprozesse zu einer verbesserten Zeilenauflösung sowie zu einer höheren Prozesswiederholbarkeit. Insgesamt ist FLEXIFAB eine hocheffektive Ausrüstung zur Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente. Seine präzise Steuerung und seine flexiblen Eigenschaften ermöglichen die Erstellung äußerst komplizierter Designs mit verbesserter Linienauflösung, Ausbeute und Wiederholbarkeit. Damit ist sie eine ideale Wahl für moderne Halbleiterproduktionsprozesse.