Gebraucht NANO OPTICS HAZE 2 #293589807 zu verkaufen

NANO OPTICS HAZE 2 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die vom industriellen Werkstoffriesen Honeywell entwickelt wurde. Dieses System ist als einfach zu bedienendes Photomaskierverfahren für Dünnschichtabscheidung, Photolithographie und andere verwandte Anwendungen konzipiert. Das Gerät verwendet ein einzigartiges wellenlängenabhängiges Polyurethan-Trübungsfilter, das ein konsistentes Lichtniveau über einen weiten Bereich von Wellenlängen und Intensität bietet. Die Maschine HAZE 2 besteht aus drei Komponenten: dem Polyurethan-Trübungsfilter, der Stromversorgung und der Belichtungssteuerung. Der Trübungsfilter absorbiert die von der Lichtquelle emittierte ultraviolette Strahlung und reduziert die Intensität der Belichtung. Dieses Filter neigt dazu, eine gleichmäßige Intensität über einen weiten Bereich von UV-Wellenlängen aufrechtzuerhalten, was für eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung wesentlich ist. Die Stromversorgung liefert die benötigte Leistung für die Belichtungssteuerung und den Trübungsfilter. Schließlich besteht die Belichtungssteuereinheit aus einem Mikroprozessor mit einer grafischen Benutzeroberfläche, mit der der Benutzer die Belichtungseinstellungen im Handumdrehen anpassen kann. Ein weiteres Schlüsselmerkmal von NANO OPTICS HAZE 2 Werkzeug ist seine Anti-Kontamination-Design. Das Asset ist mit einer Basis, Plattform und modularer Haube aufgebaut, die zusammen alle Modellkomponenten in einer versiegelten Umgebung enthalten. Dieses Anti-Kontamination-Design trägt dazu bei, dass kein Schmutz, Staub oder andere Verunreinigungen durch den Dunstfilter eingefangen und auf das zu verarbeitende Substrat gelangt. Die gesamte Anlage ist so konzipiert, dass der Photomaskierprozess einfacher und schneller wird, so dass die Dünnschichtabscheidung in einem Bruchteil der Zeit mit herkömmlicheren Photomaskierprozessen erfolgen kann. Darüber hinaus sorgt die konsistente Belichtung durch das HAZE 2-System für konstante Dünnschichtabscheidungsdicken sowie verbesserte Ausbeuten und Durchsatz. Abschließend ist die Photoresisteinheit NANO OPTICS HAZE 2 ein leistungsfähiges und effektives Werkzeug zur schnellen und präzisen Durchführung einer Vielzahl von Photolithographie- und Dünnschichtabscheidungsprozessen. Die kompakte Bauweise und die Anti-Kontamination-Eigenschaften der Maschine machen sie zu einer idealen Wahl für diejenigen, die eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Möglichkeit suchen, diese Prozesse mit konsistenten Ergebnissen durchzuführen.