Gebraucht NEC FC-9821Ka #293663397 zu verkaufen

NEC FC-9821Ka ist ein von NEC entwickeltes Photolackgerät für den Einsatz in verschiedenen Dünnschichtabscheidungs- und Ätzanwendungen. Das System verarbeitet eine breite Palette von Substraten und bietet eine beispiellose Auflösung von Merkmalen bis zu 10nm. Das Gerät nutzt die neueste LCOS-Technologie (Liquid Crystal on Silicon), um den Photolack auf beispiellose Weise zu fokussieren. FC-9821Ka Maschine beinhaltet modernste Wafer-Inspektionstechnik zur präzisen Charakterisierung von Merkmalen. Dieses Tool ist für fortgeschrittene Musteranwendungen wie Graben, Füllen, Submikron-Design-Feature-Ätzen und Seitenwandabscheidung konzipiert. Das Belichtungsverfahren basiert auf dem Photolithographieverfahren. Mit dem fortschrittlichen LCOS-basierten Reticle Control Asset und dem FLA-Modell (Laser Controlled Focus Latch Alignment) kann das Gerät eine beispiellose Auflösung bieten. Die vom System verwendeten Photoreisten sind von hoher Reinheit und können bis auf 150 nm strukturiert werden. NEC FC-9821Ka ist außerdem mit einer Plasma Focus Ion Beam (PFIB) Einheit zum Ätzen und Trockenabscheiden von Dünnschichtmaterialien ausgestattet. Eine Helium-Glimmentladungsquelle ermöglicht eine ausgezeichnete Plasmaätzselektivität und bietet vergleichsweise geringe Betriebskosten. Die PFIB-Maschine ist auch mit ultra-hoher Helligkeit gebaut, um empfindliche Maskierungsschichten für die fortschrittliche Photolithographie zu verarbeiten. Die in FC-9821Ka enthaltene Coater-Developer-Einheit enthält chemische und Spin-Coating-Funktionen und bietet eine Vielzahl von Photoresist-Anwendungen von grundlegenden bis hin zu ultrakomplexen Situationen. Der integrierte Backprozess nach der Belichtung sorgt für präzise und wiederholbare Waferbearbeitungsergebnisse. Um die Betriebszeit zu maximieren, ist das Werkzeug mit einem Druck- und Entwicklungswagen ausgestattet. Es ist ferngesteuert und kann alle Funktionen der Maschine ohne manuellen Eingriff ausüben. Die Diagnose hilft, schwer zu verarbeitende Wafer oder Glasstücke zu identifizieren. Es ermöglicht auch die Prozessoptimierung, die eine höhere Wiederholbarkeit und Genauigkeit ermöglicht. Abschließend ist NEC FC-9821Ka ein vielseitiges und leistungsstarkes Photoresist-Asset, das hervorragende Funktionen und Zuverlässigkeit bietet. Mit seinen fortschrittlichen Technologien und der tiefen Kontrolle der Parameter kann das Modell für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungs- und Ätzanwendungen verwendet werden. Die Geräte bieten Präzision und Wiederholbarkeit auf hohem Niveau und minimieren gleichzeitig die Betriebskosten durch integrierte PFIB- und Coater-Developer-Systeme.