Gebraucht NTACT nRad 2 #293736651 zu verkaufen
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ID: 293736651
Die coater, 12"
Uniformity: ±3%
Maximum coating speed: 100 mm/s
Coating thickness: 20nm - 100µm (dry)
Fluid viscosity: 1cps - 60cps
Manual substrate handling
UL and CE Compliant
Compressed gas supply: 100psi
Vacuum: 25 in HG
Power supply: 15 A, 120 VAC, 50-60 Hz, 1 Phase, 3 wire.
NTACT nRad 2 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die speziell für hochauflösende Muster- und Bildgebungsanwendungen in der Halbleiterherstellung, der Flachbildschirmproduktion und anderen Mikroelektronik-Industrien entwickelt wurde. Dieses System bietet eine breite Palette von Merkmalen und Fähigkeiten, die es ideal für den Einsatz in der Herstellung von komplexen integrierten Schaltungen, Sensoren und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) machen. Eines der Hauptmerkmale von NTACT NRAD2 Photoresist Unit ist seine hohe Präzision und Wiederholbarkeit, die für die Erzielung der gewünschten Mustergenauigkeit und Auflösung in der Halbleiterlithographie wesentlich ist. Die Maschine ist mit fortschrittlichen optischen Ausrichtungs- und Fokussierungsfähigkeiten ausgestattet, die eine präzise Ausrichtung der Photolackschicht auf das darunter liegende Substrat ermöglichen. Dadurch wird sichergestellt, dass die vom Werkzeug erzeugten Muster mit hoher Auflösung und Treue exakt auf das Substrat übertragen werden. NRad 2 Asset bietet auch eine breite Palette von Belichtungsoptionen, einschließlich UV, Deep UV und Elektronenstrahl-Lithographie, so dass Benutzer die am besten geeignete Belichtungsmethode für ihre spezifischen Anwendungsanforderungen wählen können. Das Modell ist in der Lage, eine Vielzahl von Photolackmaterialien zu handhaben, einschließlich positiver und negativer Tonresiste, sowie chemisch verstärkte Resiststoffe, so dass Benutzer Flexibilität bei der Auswahl der am besten geeigneten Resist für ihre Prozessanforderungen. Neben seiner hohen Präzision und Flexibilität bietet NRAD2 Photoresist-Ausrüstung auch hohe Durchsatzmöglichkeiten, die eine schnelle Strukturierung und Abbildung von großflächigen Substraten ermöglichen. Das System ist mit einer Hochgeschwindigkeitsstufe und robotischen Handhabungsfunktionen ausgestattet, die eine effiziente Verarbeitung mehrerer Wafer in einem Lauf ermöglichen. Diese hohe Durchsatzfähigkeit ist unerlässlich, um die Produktionsanforderungen der Hochvolumen-Halbleiterfertigung und anderer mikroelektronischer Anwendungen zu erfüllen. Ein weiterer wesentlicher Vorteil von NTACT nRad 2 ist die fortschrittliche Prozesssteuerung und -überwachung, die es Anwendern ermöglicht, ihre Lithographieprozesse für die bestmöglichen Ergebnisse zu optimieren und feinabzustimmen. Die Maschine ist mit Echtzeit-Überwachungswerkzeugen ausgestattet, mit denen Benutzer wichtige Prozessparameter wie Belichtungsdosis, Fokus und Ausrichtungsgenauigkeit verfolgen können, sodass sie schnelle Anpassungen vornehmen können, um ihren Lithographieprozess zu optimieren und konsistente Musterergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist NTACT NRAD2 Photoresist Tool ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug für hochauflösende Strukturierung und Bildgebung in der Halbleiterherstellung und anderen Mikroelektronik-Anwendungen. Mit seiner fortschrittlichen Präzision, Flexibilität, hohen Durchsatzkapazitäten und erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen ist diese Eigenschaft eine ideale Wahl für Forscher und Hersteller, die qualitativ hochwertige Musterergebnisse in ihren fortschrittlichen Mikroelektronik-Geräten erzielen möchten.
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