Gebraucht NTACT nRad #9410379 zu verkaufen

Hersteller
NTACT
Modell
nRad
ID: 9410379
Die coating system.
NTACT nRad ist ein von der NTACT Corporation entwickeltes Photoresist-Gerät. Dieses fortschrittliche Photolacksystem bietet überlegene Funktionen in Bezug auf Leistung, Gleichmäßigkeit und Kompatibilität. Es ist ideal für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterkomponenten, biomedizinischen Produkten und MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems). In einfachen Worten, nRad Photoresist-Einheit verwendet eine lichtempfindliche Flüssigkeitsschicht, um eine gemusterte Oberfläche zu schaffen. Nachdem die Flüssigkeitsschicht einer bestimmten Lichtwellenlänge ausgesetzt ist, kann die belichtete Schicht entwickelt werden und als isolierende Schicht für die metallische Schicht wirken. Die belichtete Ebene zeigt die gemusterte Ebene auf der Oberseite. Die NTACT nRad-Maschine verwendet ein einzigartiges Federungsdesign mit fortschrittlichen Mischfähigkeiten, was sie für große Produktionsprozesse geeignet macht. Die Federung kann auch sehr fein abgestimmt werden, um die Kundenbedürfnisse nach spezifischen Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Das Werkzeug bietet auch eine feine Kontrolle über die Größe der Nanometerfunktionen. Die erweiterten Mischfunktionen und die komplizierte Struktur können zusammen mit der gewünschten Formelementgröße stark skaliert werden. Dies ermöglicht eine präzise Anpassung der KE-Größe. Neben Standard-Photoresists ist das Gut auch in der Lage, mit fortschrittlichen Resistchemien wie SU8 und ECP (elektrochemisch polymerisieren) zu arbeiten. Es bietet auch hervorragende Kompatibilität mit fortschrittlichen Technologien wie Ionenstrahlätzen und Laserbearbeitung. Das Modell bietet auch hervorragende Leistung in Bezug auf Gleichmäßigkeit und Auflösung. NRad-Geräte haben eine Mindesteigenschaftsgröße von 0,6 µm, eine Linienbreitenverstellbarkeit von 0,1 µm und eine Gleichmäßigkeit von +/- 0,005 µm. NTACT nRad Photoresist System ist hocheffizient und bietet ausgezeichnete Leistung zu einem angemessenen Preis. Diese fortschrittliche Photolackeinheit kann zur Herstellung von Halbleitersubstraten, biomedizinischen Produkten und MEMS-Komponenten mit ausgezeichneter Präzision und Effizienz verwendet werden.
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