Gebraucht OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF #9203891 zu verkaufen

OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung, die für überlegene Produktivität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Herstellung von Mikroelektronik- und Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das System verfügt über fortschrittliche Technologie, um Photolack auf Substraten wie Siliziumscheiben und anderen Substraten, die bei der Geräteherstellung verwendet werden, genau zu strukturieren. Die Einheit besteht aus einer Scannerstufe, die die Substrate zur optimalen Strukturierung positioniert und orientiert. Es ist mit einer ultrahohen Auflösung, einer digitalen Bildverarbeitungsmaschine, einem präzisen laserbasierten selektiven Belichtungswerkzeug und einer hochpräzisen, Low-Speed-Optik für konsistente und genaue fotografische Belichtungen ausgestattet. Das Modell beinhaltet auch eine Mehrzonen-Messtechnik für die automatische Probenprofilierung. Das System verwendet ein hochauflösendes transparentes Pellikel, das einem UV-Laserstrahl ausgesetzt ist. Das transparente Pellikel wird dann über die Probe bewegt und zusätzlicher Laserenergie ausgesetzt. Die Kombination aus transparentem Pellikel und UV-Laserstrahl ermöglicht auch bei hoher Lithographieauflösung (450nm) eine genaue Definition feinkörniger Merkmale. 640SAF enthält auch ausgeklügelte Bildverarbeitungsalgorithmen zur genauen Maskenausrichtung der gemusterten Vorrichtung auf das Substrat. Darüber hinaus ist es in der Lage, dem Benutzer ein genaues Feedback über die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit des bildgebenden Prozesses zu geben und so zu konsistenten, qualitativ hochwertigen Ergebnissen beizutragen. Darüber hinaus bietet OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF die Flexibilität von mehreren Substratgrößen für verschiedene Arten von Halbleiterbauelementen. Darüber hinaus ermöglicht seine einstellbare Maskenöffnungstechnik den einfachen Wechsel von einer einzigen Belichtung in mehrere Belichtungsmodi. Auf diese Weise können Anwender das Gerät schnell an unterschiedliche Produktanforderungen anpassen. Insgesamt ist 640SAF eine zuverlässige und vielseitige Photolackmaschine, die optimale Produktivität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit für verschiedene Herstellungsverfahren von Mikroelektronik- und Halbleiterbauelementen bietet. Seine verschiedenen Betriebsmodi ermöglichen es Benutzern, schnell zwischen verschiedenen Produktionstechniken zu wechseln, was eine Vielzahl von Gerätedesign-Komplexitätsstufen ermöglicht. Darüber hinaus ermöglichen die ausgeklügelten Algorithmen des Werkzeugs eine schnelle und genaue Ausrichtung des Gerätedesigns auf das Substrat und bieten so hochwertige mikroelektronische Produkte.