Gebraucht OKK OKK-604M #9097634 zu verkaufen

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OKK OKK-604M
Verkauft
Hersteller
OKK
Modell
OKK-604M
ID: 9097634
Weinlese: 2006
Spin rinse dryer (SRD) 2006 vintage.
OKK OKK-604M ist eine Photoresist-Ausrüstung für eine Vielzahl von Anwendungen. Das System verfügt über eine Kombination aus hoher Auflösung, hohem Durchsatz und Punktgenauigkeit. Es ist in der Tat ein hochautomatisiertes Belichtungsgerät, das sowohl sichtbare als auch nahinfrarote Laserquellen zur schnellen, präzisen Strukturierung von Photoresistmaterialien verwendet. OKK-604M ermöglicht eine Vielzahl von Belichtungsmustern und Intensitäten während des gesamten Prozesses. Seine robuste Strahlabgabeeinheit besteht aus segmentierten Mikroskopobjektiven und verstellbaren Rollläden, die eine hochpräzise Kontrolle der Belichtung über verschiedene Ebenen ermöglichen. Die Maschine ermöglicht auch das schnelle und einfache Umschalten von Laserparametern wie Wellenlänge, Punktgröße und Pulsdauer, um die jeweilige Anwendung anzupassen. Zudem ist das Werkzeug durch seine fortgeschrittenen Temperaturregelmechanismen vor Überhitzung geschützt. OKK OKK-604M verfügt auch über einen eingebauten Wafer Turner, so dass Benutzer seine Fähigkeit erweitern, nicht nur flache Muster zu verarbeiten, sondern auch Reliefmuster, gekrümmte Muster und gestufte Muster. Dies wird durch die große mechanische Konstruktion und die starre Konstruktion des Asset ermöglicht, die eine stabile Bildgebung ermöglicht. Seine einzigartige Softwareanwendung ermöglicht auch eine mehrstufige Belichtung, von der Kontaktgröße bis zu größeren Projektionen sowie die Pulsformung mit niedrigem Arbeitszyklus. OKK-604M bietet überlegene Geschwindigkeit und Genauigkeit mit seinen fortschrittlichen Bildgebungsfähigkeiten, hohem Durchsatz und niedrigen Blendenverlusten. Das Modell bietet auch ausgezeichnete Flexibilität und Wiederholbarkeit mit seiner Vielzahl von Mustertechniken von flachen bis zu Reliefmustern. Kurz gesagt, OKK OKK-604M ist eine effiziente und zuverlässige Photolackausrüstung, die eine Kombination aus hochauflösender Musterung, schnellem Durchsatz und punktgenauer Genauigkeit bietet. Sein robustes Strahlabgabesystem, seine Temperaturkontrolleinheit und sein automatisierter Waferturner machen es zur perfekten Wahl für eine Vielzahl von Photoresist-Anwendungen.
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