Gebraucht OKK SRD #9135547 zu verkaufen

OKK SRD ist eine Hochleistungs-Photolackausrüstung für die Halbleiterherstellung. Es ist die optimale Lösung für die Herstellung von hochauflösenden Substraten. Photoresists sind lichtempfindliche chemische Verbindungen, die häufig bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Diese Anwendung erfordert die Entwicklung leistungsfähiger und zuverlässiger Photolacksysteme. SRD bietet eine komplette Reihe zuverlässiger, robuster und zuverlässiger Photomasken-Systeme, die eine Vielzahl anspruchsvoller Anforderungen erfüllen. Es bietet einen ausgeklügelten Produktionsprozess mit hoher Genauigkeit, Qualität und Reproduzierbarkeit. Dieses System basiert auf einer Einzelkomponenten-Verbindung aus Polyvinylphenol, die zur Formulierung des Photoresists verwendet wird. Lichtempfindliche Verbindungen werden sowohl mit positiven als auch mit negativen Photoresistschichten synthetisiert. Diese Photolackschicht wird auf das Substrat aufgebracht und dann strukturiert mit Licht belichtet. Der positive Photolack wird verwendet, um positive Muster zu erzeugen, während der negative Photolack negative Muster erzeugt. Nach der Belichtung wird der Photolack entwickelt, um die Muster auf dem Substrat aufzudecken. OKK SRD bietet eine breite Palette von Leistungsvorteilen, die hohe Auflösung, überlegene Empfindlichkeit und ausgezeichnete Haftung umfassen. Es bietet auch Schutz des Photolacks vor Abrieb und physikalischen Schäden. Es bietet auch verbesserte Reproduzierbarkeit, Uniformetching, Tiefätzen und niedrigen Restfotoresist. Diese Einheit ist äußerst zuverlässig und für den Einsatz in der Halbleiterindustrie sehr sicher. Die Maschine wurde auch entwickelt, um die Rüstzeit zu reduzieren und den Photolithographie-Workflow zu verbessern. Mit Hilfe der automatischen Belichtungssteuerung hilft das Werkzeug, die Wiederholbarkeit des Photoresist-Prozesses zu verbessern. Dieses Asset beinhaltet auch einen schnellen Aushärtungsprozess, der die Schrittzeiten reduziert und die Erträge verbessert. SRD ist die optimale Wahl für extrem hohe Genauigkeit und extrem feinauflösende Photomasken. Es bietet auch einen wirtschaftlichen Wettbewerbsvorteil durch die Verwendung einer einfachen und kostengünstigen Einkomponenten-Photoresist-Formulierung. Dieses zuverlässige Photolackmodell ist eine ideale Wahl für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente und wird immer beliebter, da die Herstellung immer komplexerer Substrate erforderlich ist.