Gebraucht OPTORUN GENER-1300 #293615983 zu verkaufen
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ID: 293615983
Weinlese: 2008
Vacuum coater
Chamber: φ1300 mm x 1500 mm
Dome: φ1200 mm (Spherical)
Low energy DC ion source (For plastic lenses)
EDWARDS E2M285 Pump, 2010 vintage
HELIX / POLYCOLD PFC-1000HC Chiller
Exhaust system:
E2M275 + EH1200 Lu Type, 2010 vintage
DP + POLYCOLD, 28"
Evaporator:
JEOL JST-10F E-beam power supply, 10kW
(2) Thermal resistance boats
Film thickness control:
Optical monitoring
6-Points quartz monitoring
2008 vintage.
OPTORUN GENER-1300 ist eine Photolackausrüstung, die zur Herstellung von Mikroschaltungen, Halbleitern, MEMS-Bauelementen und anderen Komponenten in der Elektronik- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Es verwendet modernes UV-Licht, einschließlich UV-Laser, um die lichtempfindliche Resistschicht auf einem Substrat zu belichten. Dieser Resist dient dann zur Definition der Schaltungsmuster und Layouts auf der Oberfläche des Substrats. OPTORUN GENER 1300 Photoresist-System kann Widerstände mit einer Wellenlänge von 190-365 nm belichten. Die Intensität und Dauer der Belichtung wird mit einem hochpräzisen Taktmechanismus gesteuert. Die Einheit ist in vier Hauptkomponenten unterteilt, die jeweils eine bestimmte Aufgabe im Prozess ausführen. Die erste Komponente ist die Lithographiemaschine, die für die Belichtung der Resistoberfläche mit UV-Licht verantwortlich ist. Ein optischer Kopf enthält einen Laser, der fokussiert und auf die Oberfläche des Substrats gerichtet ist. Dieser Laser wird entlang der Oberfläche des Substrats in einem vorprogrammierten Weg bewegt und kann so eingestellt werden, dass er verschiedene Bereiche mit unterschiedlichen Intensitäten und Stellen freilegt. Die zweite Komponente ist die Ausrichtstufe, die dazu beiträgt, das Substrat für die Lithographiemaschine in die richtige Position zu bringen und die Oberfläche zur richtigen Belichtung auszurichten. Die Ausrichtstufe ist dreiachsig einstellbar und kann für verschiedene Operationen programmiert werden. Die dritte Komponente ist die Chemie-Management-Maschine. Diese Komponente ist für die Steuerung des vorgebackenen Prozesses, des Entwicklungsprozesses und der Nachbehandlung der Substrate verantwortlich. Die Vorbackstufen umfassen Weichbacken, Resistbeschichtung, Hartbacken, Pre-Etch und Post-Etch. Der Entwicklungsprozess umfasst die Nachbehandlung des Resists, einschließlich der Betonung der Lösungsmittel- und Entwicklerauswahl, Temperatur, Zeit und Konzentration. Das vierte Bauteil ist das Gleiswerkzeug, das für das Be- und Entladen der Substrate in die und aus der Maschine verantwortlich ist, sowie die Aufzeichnung von Informationen über die belichteten und entwickelten Substrate. Neben den vier Hauptkomponenten ist GENER-1300 Photoresist Asset mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, darunter einem optischen Sicherheitsschild. Diese Sicherheitsabschirmung schützt den Bediener vor jeder vom Modell emittierten UV-Strahlung und bietet Schutz vor möglichen Augenverletzungen. Die Anlage ist außerdem mit einem Temperaturregelsystem ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Temperatur in der Maschine während des gesamten Betriebsprozesses innerhalb eines bestimmten Bereichs bleibt. Insgesamt ist GENER 1300 Photolackeinheit eine fortschrittliche Maschine, die entwickelt wurde, um elektronische Komponenten mit Genauigkeit und Präzision herzustellen. Die hoch kontrollierte Umgebung und programmierbare Funktionen ermöglichen eine schnelle und effiziente Herstellung von Schaltungsmustern und Layouts. Die Sicherheitsmerkmale sorgen dafür, dass das Werkzeug sicher und verantwortungsvoll betrieben wird.
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