Gebraucht OPTORUN OTFC-1300 #293598129 zu verkaufen

OPTORUN OTFC-1300 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung für Wafer- oder Substrat-Fertigungsanwendungen. Das System besteht aus einer Verarbeitungskammer, einer Belichtungslichtquelle sowie Steuerungs- und Überwachungshardware. Die Bearbeitungskammer ist vollständig umschlossen und ermöglicht ein gleichmäßiges Klima. Es ist in der Lage, Temperaturen zwischen 20 ° C und 25 ° C und Luftfeuchtigkeit zwischen 20% und 50% zu halten. Die Maschine hat auch die Fähigkeit, Druck entgegenzuwirken und so eine hohe Gleichmäßigkeit der Resistbelichtung zu erreichen. Die Belichtungslichtquelle liefert UV-Strahlung bei einer bestimmten Wellenlänge für die Resistverarbeitung. Es ist als Quad-Einheit für maximale Präzision konfiguriert. Darüber hinaus bieten besondere Merkmale wie einstellbare Belichtungsgröße und Positionsgenauigkeit eine ausgezeichnete Präzision und Ergebnisgleichmäßigkeit von einem Substrat zum anderen. Die Steuer- und Überwachungselektronik wird über eine PC-Schnittstelle programmiert. Dazu gehören Einstellungen für Belichtungsparameter, Temperatur, Feuchtigkeit, Druck und Substrattransport. Alle Parameter können in Echtzeit überwacht und nach Bedarf angepasst werden. Die Daten können auch in Diagrammen zur Überprüfung und Analyse dargestellt werden. OPTORUN 1300 ist modular aufgebaut und lässt sich problemlos in die bestehende Fabrikautomation integrieren. Darüber hinaus garantiert es mit seinem hochmodernen Design und seiner hohen Leistung eine verbesserte Produktionseffizienz bei minimalen Ausfallzeiten und hervorragender Ergebnisgleichmäßigkeit. Die Photolackmaschine reduziert nachweislich die Prozessvariation und verbessert die Qualität bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist auch sehr kompatibel mit verschiedenen Industriestandard-Verfahren, von konventioneller Spin-Coating bis hin zu fortschrittlichen Techniken wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Metallisierung und Trockenätzen. Insgesamt ist OTFC 1300 eine ausgezeichnete Wahl für jede Halbleiterproduktion, die eine präzise, einheitliche und wiederholbare Resistbelichtung erfordert. Es ist in der Lage, die Zykluszeit zu reduzieren und den Produktertrag zu steigern, was zu einer erhöhten Produktivität und niedrigeren Produktionskosten führt.