Gebraucht OPTORUN OTFC-1300 #293759183 zu verkaufen
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ID: 293759183
Optical thin film coater
Left ring type
OIS-TWO Ion source: 17 cm
RFN-3A Neutralizer
Lamp: 350 nm - 1100 nm
INFICON XTC / 3S Crystal controller: 6 MHz
HOM2-R/T-VIS350A Light controller: 60 Points
Right point type: 24-Points, 35 x 15 mm
JEBG-203UHO Dual gun: 10 kV, 180°
ULVAC VS2401 Oil rotary vacuum pump
ULVAC NB1200A Mechanical booster pump
Oil mist absorption tower
Oil diffusion pump
PHC-672HC Low temperature condenser
Substrate rotation: 10 rpm - 50 rpm
Temperature: 350°C
Vacuum: 9.0 E - 5 Pa
ULVAC SW1 / SC1 Vacuum gauge
UPS.
OPTORUN OTFC-1300 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung, die für die effiziente und zuverlässige Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es verwendet fortschrittliche tiefe UV-Lichtquellen und fortschrittliche Mustertechnologie, um saubere, reproduzierbare und genaue Designs zu gewährleisten, die durch einzigartige Retikle-Wiederverwendung und Magazin-Unterstützung unterstützt werden. Das System verwendet modernste 212nm tiefe UV Short Pulse Laser Direct Imaging (SPLDI) Technologie, um eine schnelle, genaue und präzise Photolithographie-Belichtung von Retikelsubstraten zu gewährleisten. Durch die Funktion „kurzer Impuls“ sind keine zusätzlichen Laserkalibrierungsschritte erforderlich, wodurch die Linienbreitenvariation und die Rauheit der Linie-Kante reduziert werden und eine verbesserte Auflösung und Registrierung ermöglicht wird. Darüber hinaus ermöglicht die kontrastreiche Bildgebungstechnik des Geräts eine erhöhte Musterauflösung und verbesserte Overlay-Genauigkeit. OPTORUN 1300 bietet zudem eine einzigartige Retikel-Wiederverwendungsfunktion, die es Anwendern ermöglicht, die Belichtung für komplexe Lithographiemuster zu wiederholen. Diese Funktion trägt dazu bei, Kosten im Zusammenhang mit der Herstellung mehrerer Musterschichten auf einem einzelnen Gerät zu reduzieren und gleichzeitig den Durchsatz zu verbessern sowie Clients mit hochwertigen Geräten auszustatten. Darüber hinaus beinhaltet es das automatische Einbringen von Retikeln in die eingebaute Magazinträgereinheit, was dazu beiträgt, Zeit während des Ladevorgangs zu sparen. Mit einer beeindruckenden Platzierungsgenauigkeit von ± 2,5 μ m bietet OTFC 1300 Anwendern eine erhöhte Wiederholbarkeit und Prozesskontrolle bei der Arbeit mit Präzisionsretikeln. Darüber hinaus reduziert die große Feldgröße von bis zu 76mm x 76mm die Rüstzeit zwischen den Belichtungen drastisch und ermöglicht eine schnellere Produktion mehrerer Produkte hintereinander. Die Maschine bietet auch Vor-Ort-Support von technischen Service-Ingenieuren während des gesamten Prozesses. Zusammenfassend ist OPTORUN OTFC 1300 ein äußerst zuverlässiges und genaues Photolackwerkzeug, mit dem Anwender fortgeschrittene Halbleiterbauelemente schnell und präzise strukturieren können. Seine Verwendung von tiefen UV-Lichtquellen, überlegene Mustertechnologie und fortschrittliche Funktionen machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für schnelle, zuverlässige Produktion von hochwertigen Produkten.
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