Gebraucht OPTORUN OTFC-1300 #9190582 zu verkaufen

OPTORUN OTFC-1300 Photoresist-Geräte bieten Anwendern ein zuverlässiges und effizientes Mittel zur Verarbeitung von Folien und Wafern. Mit diesem Photolacksystem kann das Substratmaterial einem bestimmten Muster ausgesetzt werden, das durch eine rechnergestützte Konstruktionseinheit (CAD) bestimmt wird. Diese Maschine verspricht ein ideales Werkzeug für Präzision und Genauigkeit in der mikroelektronischen Lithographie zu sein. OPTORUN 1300 verwendet speziell die Photolithographie, um ein gewünschtes Muster auf dem Substratmaterial zu erzeugen. Bei der Photolithographie wird ein Material Licht ausgesetzt, was die Materialeigenschaften in gewisser Weise verändert. Das Photolackprojektionswerkzeug OTFC 1300 optimiert diesen Prozess durch die Verwendung einer Vakuumkammer mit einer Maskenstufe und einer Beleuchtungseinrichtung. Die Maskenstufe ist, wo die CAD-entworfene Fotomaske platziert wird, und das Beleuchtungsmodell besteht aus einer Lichtquelle mit einer Ausgangslinsenausrüstung. Das Lichtausgangslinsensystem verändert den Lichtstrahl, der von der Lichtquelle kommt, und das Muster der Fotomaske beeinflusst, wie das Licht auf das Substratmaterial trifft. OPTORUN OTFC 1300 verfügt über mehrere erweiterte Funktionen. Es ist mit einer Vakuumeinheit ausgestattet, die sich schnell auf Veränderungen in der Umgebung einstellen kann und vor möglichen schädlichen Auswirkungen durch die schnellen Druckänderungen schützt. Die Maschine verwendet auch ein Kühlwerkzeug, um Überhitzung von der Lichtquelle zu verhindern und eine konstante und präzise Leistung zu gewährleisten. 1300 verfügt über eine hochkonzentrierte Verstärkungsfunktion, die erhöhte optische Strahldichten bei minimalem Verlust ermöglicht. Schließlich bietet dieses Photoresist-Asset eine automatische Ausrichtungstechnologie, die sicherstellt, dass jede Schicht immer richtig ausgerichtet ist. Insgesamt ist OTFC-1300 Fotolackmodell ein leistungsfähiges Werkzeug, um komplizierte und präzise Muster auf Substratmaterialien zu erzeugen. Es ist für Genauigkeit, Effizienz und Zuverlässigkeit optimiert und eignet sich gut für diejenigen, die eine Vielzahl von Aufgaben in der mikroelektronischen Lithographie-Industrie erfüllen möchten.