Gebraucht OPTORUN OTFC-1300DB #9382501 zu verkaufen

ID: 9382501
Weinlese: 2012
Optical thin film coater Electron gun: JST-10F-2 GUN Rotary pump: VS2401 POLYCOLD PFC-670HC Freezing pump Anti dispersion pump: 22 x 2 Units Light control Precision control Substrate heater RF Ion source, 7" missing.
OPTORUN OTFC-1300DB Photoresist Equipment ist eine hochentwickelte programmierbare integrierte Plattform zur Entwicklung fortschrittlicher Nanolithographie-Techniken. Dieses System ist kompakt und bietet eine optimale Leistung für Anwender, die den Photoresist-Anwendungsprozess entwickeln und feinabstimmen müssen. Hauptbestandteil OTFC-1300DB Photoresist Unit ist die automatisierte zweistufige Präzisionsheizkammer, die präzise Temperaturen für vor- und nachentwickelte Photoresists gewährleistet. So können Anwender höchste Genauigkeit für ihre Nanolithographie-Techniken erreichen. Die Maschine verfügt auch über ein Top-of-the-Line-Druck- und Temperaturregelwerkzeug, das hilft, die Entwicklung der Photolacke richtig zu gewährleisten. Der Druck ist von 0 bis 5 Torr einstellbar, während die Temperaturen auf fünf verschiedene Ebenen programmiert werden können, einschließlich Raumtemperatur. OPTORUN OTFC-1300DB Photoresist Asset verfügt über einen digitalen Bildschirm, mit dem die Modelleinstellungen angepasst werden können. Das LCD-Display sorgt dafür, dass immer die richtigen Parameter gesetzt werden. Es ermöglicht dem Benutzer auch, den Status des Fotolacks jederzeit zu sehen. Das Gerät verfügt auch über Auto-Tune, die hilft, die Ausrüstung schnell und genau anzupassen. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack ordnungsgemäß in das Substrat absorbiert und dann für die beste Bildqualität optimiert wird. Schließlich kommt OTFC-1300DB Photoresist System mit einem Handbuch, so dass Benutzer schnell lernen, wie alle Funktionen zu verwenden. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine vollständige Reihe von Sicherheitsprotokollen, so dass der Benutzer vor potenziellen Gefahren geschützt ist. Insgesamt ist OPTORUN OTFC-1300DB Photoresist Machine ein fortschrittliches, benutzerfreundliches Tool, das Anwendern hilft, ihre Nanolithographie-Techniken präzise und schnell zu entwickeln. Die automatisierte Präzisions-Zweistufenheizkammer und die Top-of-the-Line-Druck- und Temperaturkontrolle sorgen für optimale Leistungen. Darüber hinaus sorgen die digitale Anzeige, die automatische Abstimmung und die Sicherheitsprotokolle dafür, dass Benutzer das Beste aus ihrem Fotolackmodell herausholen können.
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