Gebraucht OPTORUN OTFC-1550 #293816717 zu verkaufen

OPTORUN OTFC-1550 ist ein Präzisionsentwickler für die Verarbeitung von Photoresists. Mit seiner fortschrittlichen optischen Hardware und dem automatisierten Workflow bietet OPTORUN OTFC 1550 eine hohe Durchsatzverarbeitung und kann eine überlegene Schicht- und Mikroausrichtungsregistriergenauigkeit erzielen. OTFC-1550 zeigt eine Präzision der optische Kopf mit der Laserdiode und hohen Geschwindigkeit, die Galvanometertechnologie darstellt. Dies ermöglicht das schnelle Scannen von Wafern und Chips, um den gewünschten Grad der Mikroausrichtungsregistrierung genau zu entwickeln. Der Kopf bietet auch eine Reihe von Belichtungsauflösungen sowie die Fähigkeit, den Tonbereich des Elektro-Photoresist-Polymers zu steuern. OTFC 1550 verfügt auch über Präzisionsoptiken und Luftstrommanagementsysteme, die zur Verbesserung des Durchsatzes und zur Verringerung von Defekten im Vergleich zu herkömmlichen Photolackverarbeitungen entwickelt wurden. Ein eigenes Düsen- und Vakuumsystem sorgt für eine gleichmäßige Schichtdicke und erzeugt konsistente Resistprofile auf Wafern und Chips. Die Präzisionsoptik umfasst auch eine automatisierte Ausrichtungskontrolle, die eine zusätzliche Prozesskontrolle durch Validierung von Beschichtungsabdeckungen und Resistprofilen ermöglicht. OPTORUN OTFC-1550 bietet auch ein automatisiertes Wafer-Handling-System, das Fehlerquoten reduzieren und Zykluszeiten verkürzen soll. Diese automatisierte Einheit verwendet eine Vision-Maschine, um Wafer genau in der Kammer zu platzieren und die Spindelhöhe des Substrats genau zu erfassen. Das Vision-Tool ist auch in der Lage, Oberflächenverunreinigungen zu erkennen, was dazu beitragen kann, dass die Beschichtung während des gesamten Resistauftrags gleichmäßig bleibt. OPTORUN OTFC 1550 enthält auch eine intuitive Bedienoberfläche, die anpassbare Echtzeit-Prozessinformationen, vollständige Fehlerprotokollierungsfunktionen und ein intelligentes Diagnoseelement anzeigt. Dies hilft, ein leistungsfähiges Werkzeug zu schaffen, das eine schnelle und effiziente Entwicklung von Photoresists gewährleistet und gleichzeitig hohe Erträge und ausgezeichnete Ätzqualität garantiert.