Gebraucht OPTORUN OTFC-1800 #9263756 zu verkaufen

OPTORUN OTFC-1800 ist eine Photolackverarbeitungsanlage der nächsten Generation, die hervorragende Leistung und Flexibilität für ein breites Anwendungsspektrum bietet. Dieses All-in-One-System bietet Benutzern die Möglichkeit, mithilfe der Photolithographie einfach Muster auf Substraten zu erstellen. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche Substrathandhabungstechnologie, eine hochzuverlässige Belichtungsquelle und ein hochpräzises Resistverarbeitungsmodul. OTFC-1800 Substrathandhabungstechnologie ermöglicht die Verarbeitung von Substraten bis 36 "Länge mit Standardglasplatten oder FOUP-Gehäusen. Es ermöglicht eine präzise Steuerung der Substratplatzierung auf der Belichtungsstufe und verfügt über eine hohe Präzision, stabile und wiederholbare Bühnenbewegung. Dadurch wird sichergestellt, dass mit minimalen Belichtungsschnittausrichtungsartefakten präzise Geometrien realisiert werden können. OPTORUN OTFC-1800 verfügt über eine hochzuverlässige und zuverlässige ultraviolette (DUV) Belichtungsquelle, die eine präzise und wiederholbare Musterbelichtung bietet. Die Quelle kann so konfiguriert werden, dass sie Vollfeld- oder Stufen- und Wiederholbelichtungen sowie eine Vielzahl von Leistungsstufen abdeckt, die spezifischen Substrat- und Widerstandsanforderungen entsprechen. Es verfügt über ein großes Beugungsgitter und einen breiten dynamischen Belichtungsbereich für eine breite Palette von photolithographischen Anwendungen. OTFC-1800 verfügt zudem über ein hochkompaktes, hochpräzises und wartungsarmes Widerstandsbearbeitungsmodul. Dieses Modul verwendet VA-Resistmethoden, um qualitativ hochwertige Resist-Prozessergebnisse zu gewährleisten und kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 4 "verarbeiten. Es weist ein temperaturerhaltendes Merkmal auf, das eine stabile Resistentwicklung während des Ätzprozesses gewährleistet und zur Maximierung der Prozessausbeuten für ein- oder mehrschichtige Strukturen konfiguriert werden kann. Insgesamt ist OPTORUN OTFC-1800 eine vielseitige und zuverlässige Fotolackbearbeitungsmaschine, die hervorragende Leistung und Flexibilität für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Es verfügt über eine fortschrittliche Substrathandhabungstechnologie, eine hochzuverlässige Belichtungsquelle und ein wartungsarmes Resistverarbeitungsmodul, um eine hochpräzise Mustererzeugung zu gewährleisten. Dies macht es zu einer idealen Wahl für photolithographische Anwendungen, die komplexe Geometrien und hohen Durchsatz erfordern.