Gebraucht OPTORUN OTFG-1000C #9359460 zu verkaufen

OPTORUN OTFG-1000C ist eine hochpräzise Photolackausrüstung, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Prozessen und Anwendungen entwickelt wurde. Das fortschrittliche Design und die Funktionen des Geräts bieten Anwendern eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Photolithographie mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit. OTFG-1000C verfügt über ein großes Sichtfeld, das bis zu 1.000 mm x 1.000 mm Rahmen aufnehmen kann. Der Rahmen ist auf einer linearen Koordinaten-Achsen-Plattform montiert, um eine genaue Ausrichtung und Positionierung sowohl für die Rahmenorientierung als auch für die Teilepositionierung zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet das Gerät eine integrierte Vision-Anleitung für präzise Level-Mapping sowie eine Zero-Toolchange-Option für einen schnellen Wechsel zwischen den Themen. Das fortschrittliche Optiksystem OPTORUN OTFG-1000C gewährleistet eine optimale Photomaskenleistung mit einer breiten Palette von Filmen, Resists, Entwickleroptionen und Maskierungsmaterialien. Die optische Strahlungsquelle des Geräts ist mit einer leistungsstarken motorisierten Vakuummaschine ausgestattet, die eine partikuläre Verschmutzung des Beleuchtungsweges verhindert und somit eine optimale Bildqualität gewährleistet. Das Tool enthält auch mehrere Abbildungsmodi für verschiedene Resisttypen. Darüber hinaus ermöglicht OTFG-1000C Benutzern die Auswahl aus einer Vielzahl von heißen und kalten Backen Einstellungen abhängig vom gewünschten Ergebnis. Heißes Backen wird verwendet, um die Haftfestigkeit zu erhöhen und die Haltbarkeit des erzeugten Bildes zu verbessern, während kaltes Backen ideal für weiche Backanwendungen für flexible Substrate oder halbsteife Substrate ist. Integrierte Bewegungssteuerung gewährleistet Positioniergenauigkeit in der Größenordnung von ± 2 μ m, stationäre Null-Ausrichtungsgenauigkeit von 1 μ m und präzise Strahlungsbelastung von weniger als einem Zehntel eines Mikrons. Die Vorrichtung kompensiert automatisch Variationen der Film- oder Substratdicke und ermöglicht eine präzise Beleuchtung und Zeitsteuerung für konsistente Photoresist-Rendering. Insgesamt ist OPTORUN OTFG-1000C ein fortschrittliches Photoresist-Prozessgerät, das Präzision und Benutzerfreundlichkeit für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Die hohe Toleranz gegenüber geringen Materialstärken und die integrierte Bildgebung und Bewegungssteuerung machen es zu einer idealen Wahl für lithographische Prozesse in einer Vielzahl von Branchen.