Gebraucht OPTORUN OTFG-1300 #9278215 zu verkaufen

OPTORUN OTFG-1300 ist eine hochpräzise, kostengünstige Photolackausrüstung, die für fortschrittliche Photolithographieanwendungen verwendet wird. OTFG-1300 verfügt über ein proprietäres optisches Filtersystem, das eine überlegene Photolackleistung und eine höhere Auflösung als herkömmliche Lithographiesysteme bietet. Das Gerät bietet präzise Bildgebung, Belichtungssteuerung und einheitliche Photoresist-Entwicklung, so dass Anwender kostengünstig die höchsten Qualitätsergebnisse erzielen können. OPTORUN OTFG-1300 ist mit einer leistungsstarken optischen Filtermaschine ausgestattet, die speziell für den Einsatz mit fortschrittlichen Photolithographie-Technologien entwickelt wurde. Dieses Werkzeug ist in der Lage, unkritische Wellenlängenbänder aus UV-Belichtung genau und präzise herauszufiltern, was zu einer verbesserten Auflösung und besseren Abbildung von Oberflächenmerkmalen auf Photoresistmaterial führt. Diese Filteranlage ist auch darauf ausgelegt, die Auswirkungen von Umwelteinflüssen zu reduzieren, was einen verbesserten Ertrag und qualitativ hochwertigere Ergebnisse ermöglicht. Das Modell verfügt auch über eine erweiterte Belichtungssteuerung und eine einheitliche Photolackentwicklung. Die Belichtungssteuerung ermöglicht es Anwendern, die UV-Belichtungspegel für verschiedene Anwendungen genau und genau zu steuern. Die empfohlene UV-Belichtungszeit wird automatisch für jeden Prozess berechnet und gewährleistet eine optimale Belichtung für jeden Prozess. OTFG-1300 verfügt auch über einheitliche Photoresist-Entwicklungsfunktionen, so dass Benutzer unabhängig von Substratvariation konsistente, qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen können. Darüber hinaus bietet die Ausrüstung standardmäßig erweiterte Funktionen wie Dual-Scan-Bildgebung, automatisches Nivellieren und Hochgeschwindigkeitsbelichtung, wodurch Benutzer die Produktionszeit reduzieren und die Produktionskosten senken können. OPTORUN OTFG-1300 bietet auch erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, die präzise und wiederholbare Photolithographie-Prozesse ermöglichen. Insgesamt ist OTFG-1300 ein hochpräzises, kostengünstiges Photolacksystem, das für fortschrittliche Photolithographieanwendungen entwickelt wurde. Mit einer proprietären optischen Filtereinheit und erweiterten Belichtungssteuerungs- und Photoresist-Entwicklungsfunktionen kann die Maschine Anwendern eine überlegene Bildqualität und eine höhere Auflösung als herkömmliche Lithographiesysteme bieten. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen können Anwender die Produktionszeit reduzieren und die Produktionskosten senken, was OPTORUN OTFG-1300 eine ausgezeichnete Wahl für hochvolumige Photolithographie-Prozesse macht.