Gebraucht OWENS DESIGN Gen 2 #9234061 zu verkaufen

OWENS DESIGN Gen 2 Photoresist Equipment ist ein kostengünstiges und fortschrittliches System, das für die Ausrüstung und Prozesse des automatisierten Photolithographie-Prozesses entwickelt wurde. Es ist eine fortschrittliche Photolithographie-Einheit, die mit den neuesten technologischen Fortschritten entwickelt wird. Die Maschine besteht aus einem hochpräzisen mehrachsigen Werkzeug, einer digitalen Projektionsanlage, leistungsstarken Software-Tools und einem hochauflösenden Projektor. Dieses Modell bietet hochauflösende Bilder und Wiederholbarkeit, überlegene Genauigkeit und eine intuitive Benutzeroberfläche. Die mehrachsige Ausrüstung verwendet fortschrittliche Linear- und Winkelgeber, um eine präzise Positionierung und Bewegungssteuerung zu gewährleisten. Auf diese Weise kann das System Maske, Wafer und Projektor im dreidimensionalen Raum der Einheit exakt oder unabhängig voneinander bewegen. Die digitale Projektionsmaschine dient zur Übertragung des photolithographischen Musters auf die Maske oder den Wafer. Der Projektor ist in der Lage, scharfe Bilder mit einer Auflösung von bis zu 2560 x 1920 Pixel bereitzustellen. Es verfügt über ein optisches Dreilinsenwerkzeug, das eine hohe Intensität der Beleuchtung bietet und die Moiré-Musterung auf der Maske oder dem Wafer eliminiert. Die leistungsstarken Software-Tools sind einfach zu bedienen und bieten volle Kontrolle über die Einstellungen des Asset. Diese Werkzeuge umfassen Ausrichtungswerkzeuge zur genauen Ausrichtung und Fokussierung der Maske oder des Wafers. Darüber hinaus umfassen sie eine Reihe anderer Funktionen wie Vektorisierung, Kompensationsdateneingabe, komplexe photolithographische Strukturierung und mehr. Gen 2 Fotolackmodell ist für schnelle, effiziente und präzise Musterung konzipiert. Die Ausrüstung bietet unübertroffene Qualität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Es ist für flexible und automatisierte Prozesse konzipiert und bietet eine kostengünstige Lösung für Produktion und Prototyping.