Gebraucht OWENS DESIGN Gen 2 #9234063 zu verkaufen

OWENS DESIGN Gen 2 ist eine digitale Photoresist-Ausrüstung, die speziell entwickelt wurde, um traditionelle Maskierungsprozesse auf dem Halbleiterherstellungsmarkt zu transformieren. Dieses System ist eines der fortschrittlichsten verfügbaren Photoresist-Verfahren, basierend auf einer mehrschichtigen Lithographietechnologie, die eine Steuerung der Photomaskierung auf Waferebene ermöglicht. Es ist ideal, um präzise Muster mit Auflösungen unter 10 Nanometern auf sehr kleinen oder komplexen Schaltungsmerkmalen zu erstellen. Die Photolackeinheit setzt auf den optischen Effekt der Photomodifizierung eines photoempfindlichen Verbundmaterials auf einer bestimmten Oberfläche. Dieses lichtempfindliche Material ist eine Beschichtung aus Chemikalien, die ein lichtempfindliches Mittel und einen Entwickler enthält. Bei Belichtung mit Licht einer bestimmten Wellenlänge ändert sich das lichtempfindliche Mittel, während der Entwickler unverändert bleibt. Zur Belichtung des lichtempfindlichen Materials wird eine präzise Maske mit lasergeschnittenem Muster über einen Wafer gelegt und eine Belichtung einer bestimmten Wellenlänge verwendet. Nach der Belichtung wird der Wafer mit einer Entwicklerchemikalie behandelt, die das belichtete lichtempfindliche Material verändert, wodurch ein präzises Muster entsteht. Gen 2 Photoresist Maschine ist sehr zuverlässig und vorhersehbar und arbeitet mit einer Vielzahl von Lithographie-Prozessen. Es bietet eine Vielzahl von anpassbaren Funktionen wie Vollmaskenbibliotheken, einfache Bedienprogrammierung, multipositionale Maskentabelle, Wafer Tray indexierbare automatische Stufen, programmierbare Belichtungszeitsteuerungen und eine zugängliche Bibliothek mit Maskenrezepten. OWENS DESIGN Gen 2 verfügt zudem über eine automatische Laserdicing-Anlage, mit der mehrere Wafer zur Weiterverarbeitung in kleinere Stücke getrennt werden können. Darüber hinaus verfügt das Tool im Rahmen seiner modernen Diagnosefunktionen über ein automatisiertes Alignment-Asset und eine adaptive Fokussteuerung, um Genauigkeit und wiederholbare Prozessergebnisse zu gewährleisten. Abschließend ist das Photoresist-Modell Gen 2 ein leistungsstarkes Werkzeug für zuverlässige, genaue Lithographieanwendungen auf Waferebene. Es bietet genaue Musterung für verbesserte Ausbeute und Produktionszeit und reduziert die Kosten pro Wafer durch seine programmierbaren Funktionen erheblich.