Gebraucht PHILIPS / FEI Magellan 400L #293597808 zu verkaufen

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ID: 293597808
Weinlese: 2012
Field Emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM) EDWARDS nXDS10i Vacuum pump THERMO FISHER SCIENTIFIC NORAN System 7 EDS System KEITHLEY 6485 Eletronic measuring instrument AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT ACC Box DELL PC For EDS APCO SIP (2) Ion pump power supply JUN-AIR 1445100 Air compressor Electrical unit HRS-012-A-20 Chiller PBF Power supply Vibration isolation table Pump cover (10) ACC Parts Crane ACC Work desk 5-Axis high precision stage, 4" In-lens / Out lens detector VCD Detector NORAN EDS System (UltraDry SDD Detector) Beam deceleration: 50 V - 30 kV ELSTAR Electron gun: 0.8 nm at 15 kV / 0.9 nm at 1 kV 2012 vintage.
PHILIPS/FEI Magellan 400L ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für die Strukturierung von mikroelektronischen Geräten mit hoher Auflösung entwickelt wurde. Es ist ein fortschrittliches, benutzerfreundliches System, das in der Lage ist, Hochtreue-Muster auf einer Vielzahl von Substraten zu produzieren. Das Gerät verwendet eine 4K ultrahochauflösende Kamera, die genau in der Lage ist, Elektronenstrahl-Resistenzen auf Oberflächen wie Wafer und Maske zu strukturieren. Der Elektronenstrahl fotografiert einzelne Pixelpunkte und integriert diese dann in eine definierte Größe und Form. Eine präzise bühnenbasierte Projektion richtet Belichtungen aus, um sicherzustellen, dass der gewünschte Abdeckungsbereich genau erreicht wird. FEI Magellan 400L Maschine ist in eine Reihe fortschrittlicher Hardware- und Softwarefunktionen integriert, wie ein automatisches Kalibrierwerkzeug, das den optimalen Strahlstrom, die Belichtungszeit und die Auflösungseinstellungen für die bestmögliche Musterauflösung bestimmen kann. Es ist auch mit einem ausgeklügelten Software-Asset für Musterung, UV-Lithographie und Elektronenstrahl-Lithographie ausgestattet. Das Bedienfeld des Modells bietet einfachen Zugriff auf eine Vielzahl von Parametern, einschließlich Strahlgeschwindigkeit, Fokussierungsbereich, Beschleunigung und Verzögerung, Fokussierungsposition, Vorwärts- und Rückwärtsneigung und Vektorlinearität. Durch seine hohe Auflösung eignet er sich auch für umgekehrte Prozesse wie Abhebe- und PR-Beschichtung. Die Ausrüstung enthält auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, die einen einstellbaren Sicherheitsstrahl und Notstoppfunktionen umfassen. Seine robuste und zuverlässige Struktur ermöglicht es dem Anwender, ihn stationär zu halten und eine stabile Plattform zu erhalten. Die Vibrationsstabilität, Auflösung, geringe Partikelverschmutzung und schattenfreie Strukturierung machen es zu einer attraktiven Wahl für diejenigen, die eine zuverlässige und präzise Resisteinheit suchen.
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