Gebraucht PURE AIRE (Sich photowidersetzen) zu verkaufen

Photoresist-Geräte des Herstellers PURE AIRE sind hochmoderne Lösungen für die Halbleiter- und Mikroelektronik-Industrie. Sie bieten eine breite Palette von Analoga, die verschiedenen Anwendungsanforderungen entsprechen und außergewöhnliche Leistung bieten. Die Vorteile der „PURE AIRE“ Photolacksysteme liegen in ihren hochauflösenden Fähigkeiten, den hervorragenden Hafteigenschaften und der außergewöhnlichen chemischen Beständigkeit. Diese Einheiten ermöglichen eine präzise Strukturierung und ermöglichen die Herstellung komplexer Mikrostrukturen. Sie eignen sich gut für fortschrittliche lithographische Verfahren wie tiefe UV- und Elektronenstrahllithographie. Ein Beispiel für das Photolacksystem aus' PURE AIRE 'ist UF72AE. Es ist ein positiver Fotoresist mit hervorragenden Auflösungsfunktionen und bietet Untermikron-Funktionsgrößen. UF72AE weist eine hohe Empfindlichkeit auf, die schnelle Bearbeitungszeiten ermöglicht. Dieses System bietet eine verbesserte Haftung auf verschiedenen Substraten, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist, einschließlich IC-Herstellung und MEMS-Herstellung. Ein weiteres Beispiel ist das negative Photolacksystem „PURE AIRE“, das einen hohen Kontrast und eine hohe Auflösung bietet. Es ist ideal für Anwendungen, die die Herstellung von Strukturen mit hohem Seitenverhältnis erfordern, wie mikrofluidische Bauelemente und optische Elemente. Insgesamt sind Photoresist-Maschinen von 'PURE AIRE' für ihre fortschrittliche Leistung bekannt, was sie zur bevorzugten Wahl für anspruchsvolle Mikroelektronik-Anwendungen macht.