Gebraucht PVA 2000 THK #9182149 zu verkaufen
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ID: 9182149
Weinlese: 2002
Conformal coating machine
Pressure and spray controls
Flow monitor system
(1) FCS100ES
(2) FS-100 Heads
2002 vintage.
PVA 2000 THK ist eine positive, UV-lichtempfindliche Photoresist-Ausrüstung von THK, einem führenden Anbieter von hochpräzisen Photomasken und lithographischen Behandlungen für die Elektronikindustrie. 2000 THK-System ist ein zweikomponentiges, flüssigkeitsbasiertes Material, das in photolithographischen Prozessen zur Bildung von Schaltungsmustern auf Photomasken, Wafern und anderen Geräten verwendet wird. Die Einheit besteht aus einem plastifizierten PVA-Foliensubstrat in Kombination mit einer über dem belichteten Photoresistmaterial aufgebrachten Schutzpolymerschicht. PVA 2000 Maschine bietet ausgezeichnete Auflösung und Feature Definition, so dass elektronische Komponentenhersteller qualitativ hochwertige, hochwertige Produkte zu produzieren. PVA 2000 THK hat eine Biegefestigkeit von 3-5 N/m2 und eine Zugfestigkeit von 12-17 N/m2, wodurch es bei der Herstellung sehr widerstandsfähig gegen mechanische Beanspruchungen ist. Die Schritte der Photomasken- und Wafer-Lithographie werden in inerten, sauerstofffreien Umgebungen durchgeführt und verwenden Quarz-Ultraviolettlicht für Belichtungs- und Nachbelichtungsprozesse. Das Photoresist-Material ist so formuliert, dass es resistent gegen saure, basische und andere chemische Ätzmittel ist und eine genaue und präzise Replikation der Merkmale gewährleistet. 2000 THK-Werkzeug ist gut geeignet für die Herstellung von großflächigen, hochpräzisen integrierten Schaltungen, Speicherchips und anderen Halbleiterbauelementen. Es wird auch für MEMS-Sensoren, nanoskalige Strukturen und optische Designs aufgrund seiner einzigartigen Mischung aus hochauflösenden und Features-Definition-Qualitäten verwendet. PVA 2000 THK asset eignet sich für viele Lithographietechniken, darunter Kontaktsysteme, Scansysteme, Näherungssysteme und Projektionssysteme. Es zeichnet sich durch niedrige Topographie, Langzeitstabilität und ist für eine breite Palette von Gerätedesign und Fertigungsprozessen anwendbar. Das Modell 2000 THK ist für den Einsatz in Labors und Produktionslinien konzipiert und bietet konsistente Leistung bei hoher Prozesskonsistenz. Es ist kompatibel mit verschiedenen Arten von Photomasken und Waferprozessen, einschließlich lokales Trimmen, Schrittmotorübertragungen, chemisch-mechanische Planarisierung und Dickenüberwachung. Darüber hinaus bietet THK ein breites Sortiment an Zubehör für PVA 2000 THK-Geräte wie Spinner, Stripper, Öfen, Resist Troffers und Ätzwerkzeuge an, um optimale Produktergebnisse bei minimaler Kontamination zu erzielen.
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