Gebraucht PVA 2000 #9293852 zu verkaufen

PVA 2000 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für photolithographische Anwendungen mit hohem Durchsatz entwickelt wurde. Es ist ein verbessertes Photolacksystem, das eine zuverlässigere und konsistentere Alternative zu herkömmlichen Photolackmaterialien bietet. Das photolithographische Verfahren von 2000 beinhaltet die Verwendung von Photolackmaterial zur Musterübertragung auf ein Substrat. Der Photolack wird dann verwendet, um ein Muster von Mikromerkmalen auf dem Substrat zu erzeugen. PVA 2000 enthält proprietäre Zusatzstoffe, die die chemische Stabilität fördern und die Möglichkeit eines Photoresistversagens reduzieren sollen. Es verbessert auch die Effizienz des Photolithographie-Prozesses, indem Rückstände eliminiert werden, die die Genauigkeit der Musterbildung beeinträchtigen könnten. Die robuste Formulierung des Geräts bietet zudem größere Schutzschichten und verbessert den Gesamtprozess. 2000 wurde entwickelt, um eine hervorragende Auflösung der Mikroeigenschaften zu ermöglichen. Es eignet sich gut für eine Vielzahl von Substraten, darunter Metalle, Polymere und Halbleiter. Besonders vorteilhaft ist es bei der Lithographie sehr kleiner Merkmale, wie sie in der Mikroelektronik benötigt werden. Der Photolack hat auch eine niedrige (Foto-) Auflösungsrate, was eine zuverlässige Lithographie von Merkmalen mit geringen Breiten ermöglicht. In Bezug auf den Durchsatz wurde PVA 2000 entwickelt, um einen konsistenten und wiederholbaren Prozess mit einer verbesserten Durchsatzrate von bis zu 3X im Vergleich zu anderen Photolacksystemen zu liefern. Durch diese erhöhte Produktivität kann der Prozess in der Hälfte der Zeit abgeschlossen werden, was ihn schneller und effizienter macht. 2000 Maschine ist auch unter Berücksichtigung der Sicherheits- und Umweltanforderungen konzipiert. Es wird durch umweltschonende Prozesse hergestellt und enthält niedrige VOCs und keine HAPs. Darüber hinaus ist das Tool sehr kompatibel mit aktuellen Sicherheitsverfahren für die Photolithographie, so dass es eine ideale Wahl in empfindlicheren Umgebungen. Insgesamt bietet PVA 2000 Photoresist Asset ein zuverlässiges und präzises Werkzeug für die Lithographie. Es bietet verbesserte Prozesswiederholbarkeit, höhere Durchsatzraten, erhöhte Umweltsicherheit und verbesserte Auflösung von Mikrofunktionen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für genaue Musterübertragung und Mikro-Feature-Herstellung.