Gebraucht PVA 2000 #9313263 zu verkaufen

Hersteller
PVA
Modell
2000
ID: 9313263
Weinlese: 2009
Coating system 2009 vintage.
PVA 2000 ist eine Fotoresistausrüstung, die für den Druck und die Bildgebung auf einer breiten Palette von Substraten verwendet wird. Es ist ein hoch Techniker verwendet Photoresist-System, das eine gute Balance von Auflösung, Bildqualität und Materialkompatibilität bietet. Photoresists sind Materialien, die bei Belichtung ein Muster auf der Oberfläche eines Substrats bilden können. Photoresists werden für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet, einschließlich der Herstellung von Leiterplatten, der Herstellung von Halbleiterbauelementen, Lithographieanwendungen und anderen Anwendungen, die eine genaue Strukturierung von dünnen Filmen erfordern. 2000 Photoresist-Einheit basiert auf einem proprietären wässrigen Entwicklungsprozess und kann für verschiedene Substrate wie Temperaturen, einschließlich Kupfer, Aluminium und andere Metalle, sowie viele Polymere und Kunststoffe verwendet werden. Die Maschine wurde entwickelt, um ausgezeichnete Bearbeitbarkeit und Bildgenauigkeit über eine breite Palette von Substraten und Temperaturen zu bieten. Es bietet eine überlegene Haftung für Metallsubstrate und eine verbesserte Haftung für Kunststoff und andere Substrate. Das Photoresist-Tool PVA 2000 kann mit einer Vielzahl von Photoprocessing-Plattformen verwendet werden, einschließlich Laser-, Wärmebild- und hochauflösender Optik mit variablem Kontrast. Es ist auch für schnelle Umdrehungszeiten konzipiert, was es gut für Serienprozesse geeignet macht. Es wurde entwickelt, um mit den meisten Resist- und Haftvermittlern kompatibel zu sein und bietet eine ausgezeichnete Druckauflösung für hochpräzise Muster. 2000 bietet überlegene physikalische Eigenschaften, einschließlich Temperaturstabilität, chemische Beständigkeit und ausgezeichnete hydrophobe-oleophobe Balance. Dies macht es für Anwendungen geeignet, die eine hohe Temperaturstabilität und ausgezeichnete Haftung erfordern. Darüber hinaus bietet es überlegene Tieftemperaturverarbeitung für verbesserte Flexibilität in Substratmaterialien und überlegene Druckauflösung und Bildqualität. Die Anlage bietet ein hohes Preis-Leistungs-Verhältnis und einfache Wartung und verfügt über hervorragende Umwelteigenschaften. Es ist formaldehydfrei, halogenfrei und entspricht den ASTM- und SAE-Standards. Darüber hinaus ist es RoHS-konform, VOC-arm und auf minimale Lösungsmittelfreisetzung ausgelegt. Dies macht es zu einer ausgezeichneten Wahl für Umweltsicherheit und Nachhaltigkeitsanwendungen.
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