Gebraucht PVA Delta 8 #293605829 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

Hersteller
PVA
Modell
Delta 8
ID: 293605829
Weinlese: 2019
Conformal coating machine 4-Axis robotic platform for dispensing X,Y Fiducial correction camera 4- Axis: Rotating head and tilt (2) FCS300-ES-M Valve mounted circular atomized sprays (2) Syringe mounted to feed valve (2) PVA-OP-11-SYR Low level material detection for syringe Drawer manual shuttle and carrier mounted on shuttle BOSCH Profiles ESD Safe package CASTER Wheels PC: Dell Processor: i7 8700 at 3, 20GHz / 64 bit No conveyor Operating system: Windows 10 Spare parts: (2) FCS300-ES Valves HEPA Filter DELTA8-SP Qty / Part number / Description (6) / PVA-10cc / Pipes (18 ) / IMFMEB / Fitting (100 ) / PVA-10cc-P100 / Piston (2) / 72555k53 / ESD bracelet (10) / FCS3-ES-SP / Spare for valve (2) / PVA-10cc-S100 / Syringes (4) / PV-LLCAP-X / Syringes adaptation (1) / 122-05597 / Wire for servo motors (1) / 122-05598 / Wire for Z axes (1) / 122-05596 / Wire for X axes (1) / M-2311C-QN-02D / Brushless DC servo motors (1) / NMV-EXT / Tube extension kit (1) / 214-5870 / Vision calibration grid (1) / AF092-30-01-21 / Contactor ABB (2) / 56575 / Full Valves (1) / DR-ODC24 / Solid state relay (1) / LPN-RK-12 / Fuse (1) / RK 4T-4/S101 / Wire (1) / B12-M12-AN6X-H1141 / Inductive detector 2019 vintage.
PVA Delta 8 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Photolithographiesystem, das in der Halbleiter- und Elektronikindustrie weit verbreitet ist. Es verwendet einen Trockenfilmfotoresist, der eine präzise Strukturierung von mikroelektronischen Komponenten ermöglicht. Die Einheit setzt auf eine photoabbildbare Polyvinylalkohol-Emulsion mit einem frei basischen Diazonaphthochinon (DNQ) sensibilisierenden Farbstoff. Der Photolack wird in Form eines Films auf den Wafer aufgebracht und anschließend ultraviolettem Licht ausgesetzt. Die ultraviolette Strahlung bewirkt eine photochemische Reaktion im DNQ, die die Übertragung des gewünschten Musters auf den Wafer initiiert. Das Musterlayout wird durch eine Maschine aus Linsen und optischen Masken in einem Prozess erzeugt, der als „Reduktionsprojektionswerkzeug“ bezeichnet wird. Nach der Übertragung des Musters wird der Wafer dann einem naßchemischen Entwickler ausgesetzt, der die unbelichteten Bereiche des Photoresistfilms selektiv entfernt. Dieses Verfahren offenbart das zugrundeliegende Metallmuster bzw. Substrat, das dann zur Herstellung hochpräziser Sub-Mikron-Bauteile verwendet werden kann. Neben Photolithographie und Mustertransfer bietet Delta 8 auch eine Vielzahl weiterer Funktionen. Sie kann beispielsweise zum Ätzen und zur Abscheidung von lichtempfindlichen Farben, Lacken und Klebstoffen verwendet werden. Die Anlage ist auch mit einer breiten Palette von Chemikalien kompatibel, einschließlich Lösungsmittel und Alkohole, was dem Anwender mehr Flexibilität bei der Herstellung von Geräten ermöglicht. Im Vergleich zu herkömmlicheren Photolithographiesystemen bietet PVA Delta 8 eine höhere Präzision, verbesserte Sicherheit und eine kostengünstigere Lösung. Darüber hinaus ist das fortschrittliche Photolackmodell in der Lage, in kurzer Zeit hochpräzise Muster zu erzeugen, ohne dass umfangreiche manuelle Schritte oder Nachbearbeitungsschritte erforderlich sind. Insgesamt ist Delta 8 eine effektive und effiziente Photolithographie-Ausrüstung für die Herstellung hochpräziser mikroelektronischer Komponenten. Durch die Verwendung eines Trockenfilmfotoresistes und eines Reduktionsprojektionssystems ist PVA Delta 8 in der Lage, Muster mit hoher Genauigkeit in einem Bruchteil der nach herkömmlichen Methoden benötigten Zeit zu übertragen. Darüber hinaus sorgt seine Verträglichkeit mit einer Vielzahl von Chemikalien und Materialien dafür, dass der Anwender eine große Flexibilität bei der Herstellung von Geräten hat.
Es liegen noch keine Bewertungen vor