Gebraucht PVA Delta 8 #293623207 zu verkaufen
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ID: 293623207
Weinlese: 2018
Conformal coating machine
Hose: SSMPC / TEFLON
Flux material: Rosin-based
(4) Motion axes: X, Y, Z (Top), and Z (Bottom)
(4) Controller axes
Spare valves
Controller: 4000
X-Stroke: 621 mm
Ballscrew lead: 10mm/rev
Y-Stroke: 595 mm
Ballscrew lead: 10mm/rev
(2) Z-Strokes: 90 mm
Ballscrew lead: 1mm/rev
Heads 1 and 2:
Top and bottom valve
Z-Slide
FCS300-F Valve
Atom air range: 0-15 PSI
SMC
KALREZ O-Ring
Liner pressure vessel (2 Gal)
Air requirement: 80-100 PSI
Dry
CFM: <10
KALREZ O-Ring
Guarding:
Interlock doors
Bellows: Metal side gap panel
Light tower
Process control:
Low level
PC
OIT Portal
White light
Ventilation:
Minimum CFM: 600
PVA Blower
Exhaust switch
Flange diameter, 6"
Blower exit diameter, 6"
Upper side panel
Syringe supply:
(2) 30cc Air caps 0-60 PSI regulator with digital pressure switches
Power supply: 120, 208-230 VAC, 3 Phase, 60 Hz, 15 A
2018 vintage.
PVA Delta 8 ist ein Photoresist-Gerät, das in Photolithographieverfahren zur Abbildung von Halbleiterbauelementen und anderen mikroelektronischen Strukturen verwendet wird. Dieses Photolacksystem besteht aus einer als Polyvinylalkohol (PVA) bezeichneten Schicht aus Polymermaterial, die als Maskierungsmittel zwischen der Vorrichtung und dem Photolackfilm wirkt. Delta 8 Photolackeinheit hat eine extrem hohe Empfindlichkeit gegenüber UV-Licht und ist in der Lage, Funktionsgrößen bis zu 8 Mikrometer aufzulösen. Es ist besonders nützlich für Geräte und mikroelektronische Strukturen, die extrem kleine Funktionsgrößen und hochauflösende Bilder benötigen. Die Photoresistmaschine PVA Delta 8 besteht aus 4 Komponenten: einem Photoresist, einem Basisbeschichtungsmaterial, einem ätzfesten Material und einem Polymerfilm. Die Photolackschicht wird mit UV-Licht strukturiert und dient als Abbildungsschicht. Es belichtet selektiv einen gemusterten Bereich, der entwickelt wird, um ein Bild der gewünschten Merkmale zu erzeugen. Die Basisschicht ist ein Material, das als Träger für die Photolackschicht wirkt und die zur Gewährleistung der Genauigkeit des Abbildungsprozesses erforderliche Stabilität bietet. Das ätzfeste Material schützt die Merkmale beim Ätzen und kann für eine Vielzahl von Materialien ausgelegt werden. Schließlich ist die Polymerfolie eine flexible Schicht, die den Abbildungsprozess versiegelt und die Strukturen schützt. Delta 8 Photoresist-Tool eignet sich für digitale Mikromirror-Geräte (DMDs) und andere Geräte, die eine extrem hohe Auflösung benötigen. Das Asset kann für Geräte wie Displays, mikrofluidische Sensoren und andere MEMS verwendet werden. Das Photolackmodell PVA Delta 8 ist ein wesentliches Werkzeug für mikroelektronische Prozesse. Seine hohe Empfindlichkeit und Auflösung ermöglichen die Abbildung von extrem kleinen Geräten und Strukturen mit genauen und langlebigen Bildern. Diese Ausrüstung kann für eine Vielzahl von Prozessen und Materialien verwendet werden, um sicherzustellen, dass die höchsten Anforderungen erfüllt werden.
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