Gebraucht PVA TEPLA 650 #9246616 zu verkaufen

PVA TEPLA 650 ist eine flüssigkeitsbasierte Photoresistausrüstung, die entwickelt wurde, um die Herstellung von Mikromerkmalen auf den Oberflächen von Geräten und Komponenten zu ermöglichen, die in der Mikroelektronik, pharmazeutischen und optischen Industrie verwendet werden. Es ist eine fortschrittliche, kostengünstige Photoresist-Technologie, die die Abbildung von lichtempfindlichen Eigenschaften mit extrem hoher Präzision und Auflösung ermöglicht. 650 wurde entwickelt, um überlegene Leistung in einer Vielzahl von bildgebenden Anwendungen zu bieten. Es verfügt über ein hohes Sensibilisierungsniveau von bis zu PVA TEPLA 650 Nanometern und ermöglicht es, selbst kleinste Mikroeigenschaften, einschließlich Vias, Gräben, Oberflächenhalterungen und andere oberflächenmontierte Elemente, präzise zu rendern. Seine hohe Viskosität bietet auch eine verbesserte Abdeckung, die sicherstellt, dass jedes Mikro-Feature präzise gedruckt wird. Das Photoresist-System wurde speziell entwickelt, um eine hohe Photostabilität und Leistung zu gewährleisten. Es ist mit speziell entwickelten Verbindungen formuliert, die eine ausgezeichnete Robustheit und Beständigkeit gegen die Umweltbelastung während des Fotoabbildungsprozesses bieten. Darüber hinaus ist das Material thermisch stabil ausgebildet, so dass es bei Hitzeeinwirkung nicht erweichen oder abbauen kann. Dadurch wird sichergestellt, dass der Fotoabbildungsprozess auch bei langen Belichtungszeiten von gleichbleibender Qualität ist, wodurch Mikromerkmale präzise gedruckt werden können. Der Photolack lässt sich leicht auf das Substrat auftragen und ist mit schnelleren Nachreinigungszyklen ausgelegt, um Ausfallzeiten zu minimieren. Es ist chemisch verträglich mit den am häufigsten verwendeten Verarbeitungsmitteln und beständig gegenüber den im Lithographieverfahren verwendeten Lösungs- und Ätzmitteln. Darüber hinaus ist das Gerät als umweltfreundlich zertifiziert und erfüllt die strengsten Emissionsstandards. 650 ist eine fortschrittliche Photoresist-Maschine, die die Produktion von Mikrofunktionen mit hochgenauer Auflösung ermöglicht. Der Photolack hat eine hohe Empfindlichkeit und thermische Stabilität und bietet eine verbesserte Leistung in einer Vielzahl von bildgebenden Anwendungen. Es ist auch mit ausgezeichneter Robustheit entworfen, bietet überlegene Haltbarkeit und Beständigkeit gegen Umweltfaktoren. Darüber hinaus bieten der schnelle Nachreinigungsprozess und die Kompatibilität mit vielen häufig verwendeten Verarbeitungsmitteln ein effizientes und zuverlässiges photochemisches Werkzeug.