Gebraucht PVA TEPLA 650 #9261168 zu verkaufen

PVA TEPLA 650 ist ein innovatives Photolacksystem für fortschrittliche Halbleiteranwendungen. Es ist ein einzelner, vorgemischter, kontrastreicher Photolack, der auf einen Siliziumwafer oder ein anderes Substrat gesponnen wird. Der Resist bietet eine untere Antireflexschicht (BARC), die eine schnelle und zuverlässige Strukturierung kleinerer Merkmale mit feinerer Auflösung ermöglicht. Der Resist besteht aus Polyvinylalkohol (PVA) mit einer speziellen Mischung aus Tensiden und Katalysatoren zur Optimierung der Haftung und Ätzeigenschaften. Das Photoresist-System verfügt über hochauflösende Funktionen und wird mit einer optimalen Konzentration an Polyvinylalkohol vorgemischt, wodurch eine Spin-Beschichtung mit Konsistenz und Reproduzierbarkeit möglich ist. Die Ätzcharakteristiken des Resists sind für eine maximale Ausbeute bei Photolithographieverfahren optimiert, wodurch Muster mit hoher Treue auf Wafer übertragen werden können. 650 resist bietet mehrere Leistungsvorteile. Es hat einen dicken Fotolackfilm und ist robuster als die meisten positiven und negativen Standardresists. Die thermische Haltbarkeit des Resistes ist ebenfalls überlegen, so dass er bei hohen Temperaturen über längere Zeit stabil bleibt. Es eignet sich gut für Trockenätzprozesse und bietet eine höhere Ätzbeständigkeit als andere Standard-Fotoleisten mit ähnlicher BARC-Leistung. Darüber hinaus ist der Photolack PVA TEPLA 650 auch kompatibel mit verschiedenen Verfahren. Es wurde getestet, um eine breite Kompatibilität mit verschiedenen Resist-Prozessen wie Deep Ultraviolet (DUV) und Extreme Ultraviolett (EUV) Lithographie zu gewährleisten. Es kann auch in einer Vielzahl von Ätzprozessen verwendet werden, einschließlich Tiefenätzen, Tiefenreaktiven Ionenätzen, Plasmaätzen und Tiefenätzen. 650 photoresist ist eine fortschrittliche Lösung für die Halbleiterindustrie und bietet eine schnelle, zuverlässige und präzise Strukturierung kleiner Merkmale. Es bietet eine breite Kompatibilität mit verschiedenen Späneherstellungsprozessen und bietet hervorragende Leistungsvorteile wie längere thermische Haltbarkeit und verbesserte Ätz- und Hafteigenschaften. Das Resist-System ist ideal für diejenigen, die ein zuverlässiges Werkzeug benötigen, um hochpräzise Muster bei kleinen Funktionsgrößen zu erstellen.