Gebraucht RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A #293643207 zu verkaufen

RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A ist eine hochentwickelte Photoresist-Ausrüstung, die eine genaue Übertragung von Mustern auf Halbleiter- und Glassubstrate ermöglicht. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um hochpräzise Muster in geätzten Geräten wie integrierten Schaltungen herzustellen. Es funktioniert, indem es eine chemische Reaktion erzeugt, wenn es Licht ausgesetzt ist. BG-401A optimiert das Photolackverfahren für eine Reihe von Materialien wie Germanium, Silizium und Polyimid mit hoher Auflösung und Genauigkeit. Das System ist für eine enge Toleranzabbildung mit hohem Durchsatz in der Musterbildgebung optimiert. Es ist mit zwei parallelen Laserstrahl-Abtastköpfen ausgestattet, die jeweils eine kontinuierliche Laserenergiewelle bereitstellen, wodurch große Scanbereiche schnell bearbeitet werden können. Die integrierte Bildverarbeitungssoftware führt eine fortschrittliche Bildverarbeitung durch, um sicherzustellen, dass Muster präzise auf Substrate übertragen werden, was hohe Erträge bei minimaler Nachbearbeitung und Schrott ermöglicht. RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A löst auch das Problem der Plasmaentladung, ein häufiges Problem in Photoresistsystemen, die inkonsistente Ätzungen und Unregelmäßigkeiten verursachen können. Die einzigartige gasdynamische Fokussiereinheit unterdrückt die Plasmaentladung, indem sie sicherstellt, dass der Laserstrahl jedes Mal den genauen Punkt im Resist erreicht. Effizienter und einfacher als herkömmliche Photomasken ist BG-401A eine leistungsfähige Alternative zur Strukturierung von Resists. Seine lichtbogenfesten Seitenwände sorgen dafür, dass die Rückstände gleichmäßiger sind, was eine zuverlässigere und wiederholbare Geräteleistung gewährleistet. Seine thermodynamischen Eigenschaften, wie seine Hochtemperaturfähigkeiten, stellen sicher, dass sich der erhitzte Resist während des Bildgebungsprozesses vorhersehbar verhält und jedes Mal konsistente Ergebnisse liefert. Vertikal und horizontal verstellbare Plattform bietet weitere Flexibilität, so dass Substrate unterschiedlicher Größen und Formen präzise verarbeitet werden können. Die Maschine ist zudem mit einer visualisierten Bedienoberfläche und einer Multilayer-Quick-Swap-Funktion ausgestattet. Diese Funktion wählt Folien aus demselben Material automatisch und schnell aus, wodurch das Muster jedes Mal manuell eingestellt werden muss. Insgesamt ist RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A ein fortschrittliches, fortschrittliches Photoresist-Tool, das den Strukturierungsprozess einfacher, schneller und zuverlässiger macht. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen bietet es eine schlanke und kostengünstige Lösung für die Herstellung von hochpräzisen Mustern in Geräten, die von Zeit zu Zeit wechselnde Muster erfordern. Es ist ideal für jede Anwendung, die komplexe, genaue und zuverlässige Muster benötigt, um produziert werden.