Gebraucht RHETECH STI 280 #17375 zu verkaufen

RHETECH STI 280
ID: 17375
Wafergröße: 6", 8"
Weinlese: 1999
Automatic system (Stacker) for DI spin & dry N2 process design for 6" & 8" wafers Full control 1999 vintage.
RHETECH STI 280 ist eine von RHETECH Technologies entwickelte Photoresistausrüstung. Es ist ein komplettes System einschließlich der zugehörigen Software, Hardware und Verbrauchsmaterialien. Die Einheit besteht aus einer Projektionsanordnung, einer UV-Quelle und einer lichtempfindlichen Maske. Die Projektionsanordnung hat eine Drei-Öffnungen-Konstruktion, die mehrere Schichten lichtempfindlicher Maske ermöglicht. Die UV-Quelle liefert bis zu 5 Watt intensives UV-Licht, mit dem Schattenbilder auf der Maske erzeugt werden können. Das Maskenmaterial ist ein hochspezialisiertes, konsistentes und stabiles Polymer, das empfindlich auf UV-Licht reagiert. Die Maske ist so konzipiert, dass sie mehrmals mit der gleichen Leistung verwendet wird. Bei UV-Licht werden die belichteten Bereiche der Maske unlöslich und nicht reaktiv, was das Ätzen erleichtert. Die dazugehörige Software für die Maschine ist leistungsstark und intuitiv, was eine konstruktive Erfassung, Validierung und Simulation von bildgebenden Prozessen ermöglicht. Die Software kann auch eine Echtzeitvorschau des gesamten Designs zur Überprüfung des Bildgebungsprozesses liefern. Mit dieser Echtzeit-Vorschaufunktion kann der Benutzer Parameter anpassen, um die Bildgebungsergebnisse zu verbessern. Die Software ermöglicht auch die automatisierte Mustererzeugung. Dies trägt dazu bei, den Zeitaufwand für das Fotomaskendesign zu reduzieren und die Genauigkeit der erzeugten Muster zu verbessern. Zu den Verbrauchsmaterialien für das Werkzeug gehört die lichtempfindliche Maske, die zur Belichtung und Entwicklung verwendet wird. Die Maske ist auf optimale optische Leistung und Haftfestigkeit ausgelegt. Um die Leistung zu optimieren, müssen empfohlene Prozessstandards eingehalten werden, wie z. B. die Verwendung von Folien für eine bestimmte Quellintensität, die Verwendung berührungsloser Handhabungstechniken und die Verwendung von für die Anwendung geeigneten Flüssigkeitsentwicklerlösungen. STI 280 ist ein fortschrittliches Photoresist-Asset, das eine kostengünstige und effiziente Lösung für die kleine bis mittlere Produktion bietet. Die hohe Leistung und das benutzerfreundliche Design machen es zu einer großen Wahl für Anwendungen wie Photolithographie, Druckermuster und Leiterplatten. Sein vielseitiges Design macht es auch für eine breite Palette von bildgebenden Anwendungen geeignet.
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